[发明专利]触控式面板结构及其制造方法无效
| 申请号: | 200910036786.1 | 申请日: | 2009-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN101710211A | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
| 发明(设计)人: | 李得俊 | 申请(专利权)人: | 深超光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/1339;G06F3/041 |
| 代理公司: | 东莞市中正知识产权事务所 44231 | 代理人: | 侯来旺 |
| 地址: | 511458 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 触控式 面板 结构 及其 制造 方法 | ||
1.一种触控式面板结构,其特征在于:包含,
一液晶材料;
一第一基板,具有多个画素及位于相邻画素间之一遮光区;
一第二基板,与该第一基板对应接合形成一间隙层供该液晶材料容置于其间;以及
一间隔剂胶材,以喷写方式定着于该遮光区以界定该间隙层;其中,该间隔剂胶材进一步包含:
一第一间隔剂,位于该遮光区并与该第二基板相接以维持该间隙层,其中该第一间隔剂与该第一基板相接处形成有一第一接触面;以及
一非球状间隔剂,设置于该第一间隔剂附近,并与该第一基板具有一第二接触面,其中该第二接触面的面积大于该第一接触面的面积。
2.根据权利要求1所述的触控式面板结构,其特征在于:该非球状间隔剂与该第一间隔剂分别具有一压缩模数,且该非球状间隔剂的压缩模数不小于该第一间隔剂的压缩模数。
3.根据权利要求1所述的触控式面板结构,其特征在于:该第一间隔剂与该非球状间隔剂具有相同的一第一压缩模数。
4.根据权利要求3所述的触控式面板结构,其特征在于:另包含一第二间隔剂设置于该第一间隔剂与该非球状间隔剂附近,其中该第二间隔剂具有一第二压缩模数不同于该第一压缩模数。
5.根据权利要求4所述的触控式面板结构,其特征在于:该第二间隔剂的该第二压缩模数大于该第一压缩模数。
6.根据权利要求4所述的触控式面板结构,其特征在于:该第二间隔剂包含一光刻型间隔剂(Photospacer),且该光刻型间隔剂具有一纵向高度不大于该非球状间隔剂的纵切面高度。
7.根据权利要求4所述的触控式面板结构,其特征在于:当该第一间隔剂与该非球状间隔剂处于一受压状态,该第二间隔剂处于未受压状态。
8.根据权利要求1或4所述的触控式面板结构,其特征在于:该非球状间隔剂包含一短柱型间隔剂,该短柱型间隔剂具有一下表面与该第一基板相接形成该第二接触面。
9.根据权利要求8所述的触控式面板结构,其特征在于:该第一间隔剂是一球状间隔剂,该球状间隔剂与该第一基板相接所形成的该第一接触面之面积小于该第二接触面的面积。
10.根据权利要求1所述的触控式面板结构,其特征在于:当该第一间隔剂处于一受压状态,该非球状间隔剂处于未受压状态。
11.根据权利要求1所述的触控式面板结构,其特征在于:当该第一间隔剂与该非球状间隔剂处于一受压状态,该非球状间隔剂受压所生的形变小于该第一间隔剂。
12.根据权利要求4所述的触控式面板结构,其特征在于:当该第一间隔剂与该非球状间隔剂处于一受压状态,该第二间隔剂处于未受压状态。
13.根据权利要求12所述的触控式面板结构,其特征在于:当该第一间隔剂与该非球状间隔剂及该第二间隔剂皆处于一受压状态,该第二间隔剂受压所生的形变小于该非球状间隔剂。
14.一种触控式面板结构之制造方法,其特征在于:包含下列步骤,
形成一第一基板,该第一基板具有多个画素及位于相邻画素间之一遮光区;
混合二种以上间隔剂与一胶材形成一间隔剂胶材,并透过一喷头装置将该间隔剂胶材喷写于该遮光区;以及
加热固化该间隔剂胶材,使该些间隔剂定着于该遮光区。
15.根据权利要求14所述的一种触控式面板结构的制造方法,其特征在于:进一步包含一面板组立步骤,该面板组立步骤包含:
滴定一液晶至该第一基板;以及
供应一第二基板至该第一基板处并对应贴合该第一基板与该第二基板形成一液晶层。
16.根据权利要求15所述的一种触控式面板结构的制造方法,其特征在于:该二种以上间隔剂至少包括一非球状间隔剂与一第一间隔剂,其中该间隔剂胶材喷写步骤更包含将该非球状间隔剂与该第一间隔剂喷写于该遮光区,以维持该液晶层之间隙高度。
17.根据权利要求16所述的一种触控式面板结构的制造方法,其特征在于:该非球状间隔剂与该第一间隔剂分别具有一压缩模数,且该非球状间隔剂之压缩模数不小于该第一间隔剂的压缩模数。
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