[发明专利]发光装置、面光源装置、以及显示装置有效

专利信息
申请号: 200910004478.0 申请日: 2009-03-04
公开(公告)号: CN101526177A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 山口昌男 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: F21S2/00 分类号: F21S2/00;F21V13/00;F21V5/00;F21V29/00;G02F1/13357;F21Y101/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 张敬强
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 装置 光源 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种发光装置,通过光束控制部件出射来自发光元件的光,其特征在于,

上述光束控制部件具备:控制来自上述发光元件的光的出射的光控制出射面、和配置成与安装有上述发光元件的基板相对而且与上述基板相接的背面,

上述光控制出射面形成为,

对于从上述发光元件出射的光之中至少从其最大强度的光出射的方向在75°角度范围内出射的光,将入射到上述光束控制部件并到达上述光控制出射面的上述角度范围内的光、和通过其到达的点与上述发光装置的基准光轴平行的线所成的角度设为θ1,将从上述光控制出射面出射的光的出射角设为θ5时,出射到上述基准光轴附近的角度区域的光与出射到离开上述基准光轴的角度区域的光相比较,θ5的增加量相对于θ1的增加量(Δθ5/Δθ1)更大,

上述背面具有:(1)形成于与上述发光元件对应的位置,并以引入来自上述发光元件的光的方式在上述背面具有开口边缘的第一凹部;

(2)以从上述第一凹部沿上述背面朝向半径方向外方延伸的方式凹陷,并连通上述第一凹部和外部的至少两个通气槽。

2.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

上述光控制出射面具有:位于上述基准光轴附近而且占据以上述基准光轴为中心的规定范围的环状的第一出射面、和与该第一出射面的周围邻接配置的第二出射面,这些第一出射面和第二出射面的连接部分为变曲点。

3.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

上述通气槽被与其延伸方向正交而且与上述背面正交的假想平面切断的槽截面形状为矩形形状。

4.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

上述通气槽被与其延伸方向正交而且与上述背面正交的假想平面切断的槽截面形状为圆弧形状。

5.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

上述通气槽以槽底与上述背面平行的方式,从上述第一凹部侧端部直到上 述外部侧端部以一定的槽深度形成。

6.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

上述光控制出射面形成为,除了从上述发光元件出射的光之中的上述基准光轴附近的光之外,

(A)满足θ5/θ1>1的关系,并且

(B)随着θ1的增加,θ5增大的形状。

7.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

在上述通气槽的槽底形成有以上述基准光轴为中心的平面形状为圆弧状的第二凹部,

上述第二凹部形成为可抑制来自上述发光元件的光在上述基准光轴附近折射而入射。

8.根据权利要求7所述的发光装置,其特征在于,

上述第二凹部为,

(1)被包含上述基准光轴而且通过上述通气槽的上述外部侧端部的假想平面切断的截面形状凹成三角形状;并包括:

(2)位于上述第一凹部侧,并倾斜成随着远离上述第一凹部侧,从上述槽底的凹陷量逐渐增加的平面形状为圆弧状的第一倾斜面,以及

(3)位于从上述第一凹部离开的一侧,并连接上述第一倾斜面的一端部和上述槽底的平面形状为圆弧状的第二倾斜面;

(4)上述第一倾斜面在被上述假想平面切断的截面形状中,以不妨碍从上述发光元件出射且到达上述第二凹部的光的向上述第二倾斜面的入射的方式,在连接上述发光元件的发光中心和上述第一倾斜面的另一端部的线的延长线上或者以比延长线更陡的角度形成。

9.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,

在上述通气槽的槽底形成有具有用于引入来自上述发光元件的光的面的第二凹部,

上述第二凹部形成为可抑制来自上述发光元件的光在上述基准光轴附近折射而入射。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩普乐股份有限公司,未经恩普乐股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910004478.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top