[发明专利]关于流化床的方法和装置

权利要求书

1.一种在流化床装置中通过电容X线断层摄影术产生流化颗粒的颗粒密度图图像的方法，所述流化床装置包括确定流化空间的气体分配板和一个或多个侧壁，和围绕所述一个或多个侧壁定位的电容X线断层摄影术传感器阵列，其中：对应于具有第一介电常数的流化颗粒的第一相和对应于具有第二介电常数的流化气体的第二相被成像，其特征在于：在计算图像中使用的第一介电常数在颗粒的流化期间通过使用一个或多个再校准电容被重新校准，以允许其介电常数值的变化，所述一个或多个重新校准电容由一对或多对基准电极测量，所述一对或多对基准电极被定位以测量接近所述一个或多个侧壁的密集流化颗粒的电容。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：对于每对基准电极，两个基准电极大致在所述流化空间的相同侧上。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中：所述一对或多对基准电极被定位为接近气体分配板的上表面，优选地离开气体分配板的上表面小于20cm。

4.根据前述任意一项权利要求所述的方法，其中：每对基准电极的每个基准电极在距离气体分配板的上表面的一定距离处，该距离对于每个基准电极基本相同。

5.根据前述任意一项权利要求所述的方法，其中：所述基准电极围绕流化空间基本均匀地间隔开。

6.根据前述任意一项权利要求所述的方法，其中：每对基准电极的基准电极为相邻电极。

7.根据前述任意一项权利要求所述的方法，其中：多个重新校准电容在基准电极对之间被测量，并且由所述多个重新校准电容进行平均重新校准电容的计算，所述平均重新校准电容用于重新校准第一介电常数。

8.根据权利要求7所述的方法，其中：重新校准电容在至少3对基准电极之间被测量，并且如果特定重新校准电容与其它重新校准电容的平均值实质不同，则所述特定重新校准电容从所述平均重新校准电容的计算中被排除。

9.根据前述任意一项权利要求所述的方法，其中：所述基准电极是电容X线断层摄影术传感器阵列的电极。

10.根据权利要求9所述的方法，其中：所述流化床装置包括定位在距离气体分配板的上表面不同距离的位置处的两个或更多个电容X线断层摄影术传感器阵列，由此形成距离气体分配板的上表面的不同距离处的流化颗粒的图像。

11.根据前述任意一项权利要求所述的方法，其中：所述颗粒密度图图像是包括多个介电常数图像像素的图像，所述多个介电常数图像像素对应于流化床装置中的多个成像体积元素的每个，每个介电常数图像像素显示了每个对应体积元素的总介电常数。

12.根据权利要求11所述的方法，其中：对应于流化床装置中的多个成像体积元素的每个，产生包括多个固体分布图像像素的固体分布图像，每个固体分布图像像素显示每个对应体积元素的固体含量。

13.根据权利要求11或权利要求12所述的方法，其中：对应于流化床装置中的多个成像体积元素的每个，产生包括多个液体分布图像像素的液体分布图像，每个湿度分布图像像素显示每个对应体积元素的总液体含量。

14.根据权利要求11到13的任意一项所述的方法，其中：在任何具体时刻，流化气体被处理为在整个流化空间中具有平均液体含量。

15.根据权利要求11到14的任意一项所述的方法，其中：在任何具体时刻，测量流化气体的入口液体含量和出口液体含量，从而可以导出流化气体的平均液体含量。

16.根据权利要求11到15的任意一项所述的方法，其中：在任何具体时刻，流化颗粒被处理为在整体流化空间中的流化颗粒具有平均液体含量。

17.根据权利要求16所述的方法，其中：利用流化颗粒的液体含量与测量的电容之间的函数关系，在任何具体时刻，流化颗粒的平均液体含量由重新校准电容导出。

18.一种用于测量流化床装置中的流化颗粒的液体含量的方法，流化床装置包括确定流化空间的气体分配板和一个或多个侧壁，其特征在于：通过一对或多对基准电极在流化期间测量校准电容，所述一对或多对基准电极被定位以测量接近所述一个或多个侧壁的密集流化颗粒的电容，其中：流化颗粒的液体含量通过流化颗粒的液体含量与所测量的电容之间的函数关系由所述校准电容导出。