[发明专利]用于样品中靶粒子的传感器装置有效
| 申请号: | 200880112936.6 | 申请日: | 2008-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN101836102A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
| 发明(设计)人: | C·A·费许雷恩;J·A·H·M·卡尔曼;A·H·J·伊明克;M·梅珍斯;J·维恩;B·M·德布尔;T·P·H·G·扬森 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N15/06 | 分类号: | G01N15/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 样品 粒子 传感器 装置 | ||
1.一种用于确定在样品室(2)的接触面(112-612)上的靶粒子(1)的量的传感器装置(100-600),在所述样品室中提供具有所述靶粒子的样品,所述传感器装置包括
a)传感器元件(SE),其用于检测所述样品室(2)中的靶粒子(1),并且用于提供至少一个相应的传感器信号(s、s′);
b)评估单元(EU),其用于基于所述至少一个传感器信号,直接地或间接地确定紧接所述接触面上的第一区(Z1)中和远离所述接触面距离(z)的第二区(Z2)中的靶粒子(1)的量。
2.根据权利要求1所述的传感器装置(100-600),
其特征在于,所述传感器元件(SE)提供至少两个传感器信号(s、s′),所述传感器信号(s、s′)以不同的方式分别对在所述第一区(Z1)中和所述第二区(Z2)中的靶粒子(1)的量敏感,并且其特征在于,所述评估单元(EU)确定所述传感器信号(s、s′)的加权差。
3.根据权利要求1所述的传感器装置(600),
其特征在于,所述样品室(2)包括与所述接触面(612)中靶粒子(1)不能够进入的部分相邻的隔离区(613)。
4.根据权利要求1所述的传感器装置(100-200),
其特征在于,所述传感器元件(SE)包括
a)至少一个光源(121、121′、221、221′),其用于发射两条输入光束(L1、L1′),使得它们在不同条件下于所述接触面(112-212)处被全反射并作为对应的输出光束(L2、L2′),由此在所述输入光束(L1、L1′)于所述接触面(112-212)处的全反射期间产生具有不同衰减距离(ze)的倏逝波,由此所述输入光束(L1、L1′)在所述接触面(212)处具有不同的光谱成分和/或入射角度(θ);
b)至少一个光检测器(131、131′、231、231′),其用于确定所述输出光束的光量并且用于提供相应的传感器信号(s、s′)。
5.根据权利要求1所述的传感器装置(300-600),
其特征在于,其包括
a)至少一个磁场发生器(W1-W4),其用于在所述样品室(2)中生成至少两个具有不同位形的磁激励场(B、B′),由此所述磁场发生器包括至少两条导线(W1-W4),所述导线能够被选择性地提供激励电流并且相对于所述磁传感器元件(SE)具有不同的几何布置;
b)磁传感器元件(SE),其用于检测由磁靶粒子(1)对所述磁激励场作出反应而生成的磁反应场(Br)并且用于提供相应的传感器信号(s、s′)。
6.根据权利要求1所述的传感器装置(300、500、600),
其特征在于,其包括相对于所述磁传感器元件(SE)对称布置的导线(W1-W4)对,并且其特征在于,所述接触面(112-612)包括靶粒子(1)能够结合到其上的结合部位(3)。
7.根据权利要求1所述的传感器装置(100-600),
其特征在于,其包括用于主动移动靶粒子(1)的操控装置,特别是磁场发生器(141),所述操控装置(141)适于从所述传感器元件(SE)的敏感区域移除自由靶粒子(1)。
8.根据权利要求1所述的传感器装置(100-600),
其特征在于,所述评估单元(EU)适于评估所述传感器信号(s、s′)的时间过程,关于所述靶粒子(1)的随机移动进行所述评估,和/或其特征在于,所述评估单元(EU)适于确定所述传感器信号(s、s′)的噪声功率,优选地确定在高通滤波之后的所述传感器信号(s、s′)的噪声功率,和/或其特征在于,所述评估单元(EU)适于确定在所述第二区(Z2)中的靶粒子(1)的平均数目和该数目的变化,和/或其特征在于,所述评估单元(EU)适于确定在所述第二区(Z2)中的靶粒子(1)的平均数目和该数目的变化,和/或其特征在于,所述评估单元(EU)适于推断关于群集的靶粒子(1)的量的信息、关于所述接触面的覆盖范围的信息、和/或关于所述靶粒子的扩散特性的信息。
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