[发明专利]防反射膜

权利要求书

1.一种防反射膜，其为依次层压透明基材、折射率高于透明基材的 高折射率层、折射率低于高折射率层的低折射率层而成的防反射膜，其中 低折射率层是含有中空微粒子、改性硅酮化合物、不同于该改性硅酮化合 物的第二树脂成分的聚合性组合物的固化物，

在聚合性组合物中，改性硅酮化合物的含量为10重量％以下，中空 微粒子的含量为40重量％以上70重量％以下，

第二树脂成分含有90重量％以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，其中， 多官能(甲基)丙烯酸酯选自多元醇与(甲基)丙烯酸的酯、聚氨酯丙烯 酸酯、聚酯丙烯酸酯，

改性硅酮化合物具有作为重复单元具有2个以上硅氧烷结构的主骨 架和键合在主骨架上的官能团，其中，主骨架质量除以键合于该主骨架的 官能团的mol数的值为1630g/mol以上。

2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中中空微粒子为中空二氧化 硅粒子。

3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中低折射率层为通过电 离放射线的照射所形成的固化物。

4.根据权利要求1所述的防反射膜，其中键合在改性硅酮化合物主 骨架上的官能团选自包含丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基的官能团组。

5.根据权利要求1所述的防反射膜，其中中空微粒子的平均粒径为 10nm以上200nm以下。

6.根据权利要求1所述的防反射膜，其中中空微粒子在表面上具有 通过电离放射线聚合的官能团。

7.根据权利要求1所述的防反射膜，其中低折射率层的膜厚为50nm 以上200nm以下。

8.根据权利要求1所述的防反射膜，其中低折射率层的表面的平均 面粗糙度为1.0nm以上5nm以下。

9.根据权利要求1所述的防反射膜，其中低折射率层是电离放射线 固化型的聚合性组合物在氮气环境中的固化物。

10.根据权利要求1所述的防反射膜，其中高折射率层的铅笔硬度为 2H以上。