[发明专利]感光性树脂组合物及其层压体

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，所述感光性树脂组合物含有： 20～90质量％的(a)含有羧酸且酸当量为100～600、重均分子 量为5,000～500,000的碱可溶性高分子；5～70质量％的(b) 烯属不饱和加成聚合性单体；以及0.01～30质量％的(c)光聚 合引发剂，其中，作为该(b)烯属不饱和加成聚合性单体，含 有0.5～30质量％选自于下述通式(I)表示的化合物组中的至少 一种化合物、0.5～30质量％选自于下述通式(II)表示的化合 物组中的至少一种化合物、以及1～30质量％选自于下述通式 (III)表示的化合物组中的至少一种化合物，作为该(c)光聚 合引发剂，含有0.01～30质量％的下述通式(IV)表示的吖啶 化合物，

[化学式1]

式(I)中，R₁和R₂分别独立地为氢原子或者甲基；A和B 表示碳原子数为2～6的亚烷基，它们可以相同也可以不同，在 不同的情况下，由-(A-O)-和-(B-O)-的重复单元构成的结 构可以由无规的方式构成也可以由嵌段的方式构成；m1、m2、 m3以及m4为0以上的整数，m1+m2和m3+m4分别独立地为0～8 的整数，m1+m2+m3+m4为2～8的整数；

[化学式2]

式(II)中，R₃和R₄分别独立地为氢原子或者甲基；C和D 表示碳原子数为2～6的亚烷基，它们可以相同也可以不同，在 不同的情况下，由-(C-O)-和-(D-O)-的重复单元构成的结 构可以由无规的方式构成也可以由嵌段的方式构成；m5、m6、 m7和m8为0以上的整数，m5+m6和m7+m8分别独立地为0～28 的整数，m5+m6+m7+m8为10～28的整数；

[化学式3]

式(III)中，R₅和R₆分别独立地为氢原子或者甲基；E和F 表示碳原子数为2～6的亚烷基，它们可以相同也可以不同，在 不同的情况下，由-(E-O)-和-(F-O)-的重复单元构成的结 构可以由无规则的方式构成也可以由嵌段的方式构成；m9、 m10、m11和m12为0以上的整数，m9+m10和m11+m12分别独立 地为0～50的整数，m9+m10+m11+m12为30～50的整数；

[化学式4]

式(IV)中，R₇为氢、烷基、芳基、吡啶基、烷氧基、或 者为取代烷基。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其进一步含 有0.01～3质量％的(d)N-芳基-α-氨基酸化合物和0.01～30质 量％的(e)卤化物。

3.一种感光性树脂层压体，其含有由基材膜构成的支撑 体、和层压在该支撑体上的由权利要求1或2所述的感光性树脂 组合物构成的层。

4.一种抗蚀图案形成方法，其含有以下工序：准备权利要 求3所述的感光性树脂层压体，在基板上层压该感光性树脂层压 体的由感光性树脂组合物构成的层来形成感光性树脂层，对该 感光性树脂层进行曝光、显影。

5.根据权利要求4所述的抗蚀图案形成方法，在所述曝光 工序中，曝光方法为直接描绘，照度为10mW/cm²以上，激光扫 描方向的扫描速度为2cm/秒以上。

6.一种具有凹凸图案的基材的制造方法，其包含以下步 骤：使用玻璃肋作为基板，根据权利要求4或5所述的方法在该 基板上形成抗蚀图案，用喷砂方法加工所得基板，剥离抗蚀图 案。

7.一种导体图案的制造方法，其包含以下步骤：使用金属 板或包覆有金属膜的绝缘板作为基板，根据权利要求4或5所述 方法在该基板上形成抗蚀图案，对得到的基板进行蚀刻或镀敷。