[发明专利]用于确定价态的小斑高能量分辨的XRF系统

权利要求书

1.一种用于确定样品价态的X射线荧光系统，其包括：

X射线激励路径，用于使用X射线激励样品；

X射线检测路径，用于检测从样品中发射的荧光，并聚焦该发射的荧光到焦斑；

所述检测路径包括检测光学器件，用于聚焦该荧光；和

所述检测路径进一步包括探测器，焦斑聚焦于其上，该检测器检测所述焦斑位置，从中确定所述样品的价态。

2.如权利要求1所述的X射线荧光系统，其中所述检测路径对单个样品或在不同样品间比较地检测焦斑的位置，从而对相同样品绝对地或不同样品相对地确定价态。

3.如权利要求1所述的X射线荧光系统，其中所述检测路径执行刀锋扫描、针孔扫描、狭缝扫描和/或位置灵敏/区域探测器以检测焦斑位置。

4.如权利要求1所述的X射线荧光系统，其中所述激励路径包括聚焦激励光学器件，用于从X射线源收集X射线并聚焦X射线到样品上。

5.如权利要求1所述的X射线荧光系统，其中所述检测光学器件包括双弯曲单色光学器件，用于收集来自样品的大立体角荧光并聚焦该荧光到探测器上的焦点。

6.如权利要求5所述的X射线荧光系统，其中所述双弯曲单色光学器件是双弯曲晶体光学器件或双弯曲多层光学器件。

7.一种用于确定样品价态的X射线荧光方法，其包括：

使用X射线激励样品；

检测样品发射的荧光，并聚焦该发射的荧光到焦斑；

所述检测包括使用检测光学器件聚焦该荧光；和

所述检测进一步包括使用探测器，焦斑聚焦于其上，该检测器检测所述焦斑的位置，由此确定样品的价态。

8.如权利要求7所述的X射线荧光方法，其包括对单个样品或在不同样品间比较地检测焦斑位置，从而对相同样品绝对地或对不同样品比较地确定价态。

9.如权利要求7所述的X射线荧光方法，其中所述检测包括刀锋扫描、针孔扫描、狭缝扫描和/或位置灵敏/区域探测以检测焦斑位置。

10.如权利要求7所述的X射线荧光方法，其中激励步骤包括使用聚焦激励光学器件收集来自X射线源的X射线并聚焦X射线到样品上。

11.如权利要求7所述的X射线荧光方法，其中所述检测包括使用双弯曲单色光学器件收集来自样品的大立体角荧光并聚焦该荧光到探测器上的焦点。

12.如权利要求11所述的X射线荧光方法，其中所述双弯曲单色光学器件是双弯曲晶体光学器件或双弯曲多层光学器件。

13.一种用于确定样品价态的X射线荧光系统，其包括：

X射线激励路径，用于使用X射线激励样品；

X射线检测路径，用于检测该样品发射的荧光；

所述检测路径包括检测光学器件，用于根据布拉格条件聚焦该荧光到探测器；且

其中在至少两个源自样品的入射角度间摆动该检测光学器件，改变布拉格条件以允许检测该样品中至少一个价态。

14.如权利要求13所述的X射线荧光系统，其中该激励路径包括聚焦激励光学器件，用于收集来自X射线源的X射线并聚焦X射线到该样品。

15.如权利要求13所述的X射线荧光系统，其中该检测光学器件包括双弯曲单色光学器件，用于收集来自样品的大立体角荧光并聚焦该荧光到该探测器上的焦斑。

16.如权利要求15所述的X射线荧光系统，其中该双弯曲单色光学器件是双弯曲晶体光学器件或双弯曲多层光学器件。

17.一种用于确定样品价态的X射线荧光方法，其包括：

使用X射线激励样品；

检测从该样品发射的荧光，包括用检测光学器件根据布拉格条件聚焦该荧光到探测器；和

在在至少两个源自样品的入射角度间摆动该检测光学器件，从而改变布拉格条件以允许检测该样品中至少一个价态。

18.如权利要求17所述的X射线荧光方法，其中所述激励包括使用聚焦激励光学器件，用于收集来自X射线源的X射线并聚焦X射线到该样品上。

19.如权利要求17所述的X射线荧光方法，其中所述检测光学器件包括双弯曲单色光学器件，用于收集来自样品的大立体角荧光并聚焦该荧光到该探测器上的焦斑。

20.如权利要求19所述的X射线荧光方法，其中该双弯曲单色光学器件是双弯曲晶体光学器件或双弯曲多层光学器件。