[发明专利]控制狭缝门密封压力的方法和设备无效

专利信息
申请号: 200880006746.6 申请日: 2008-02-27
公开(公告)号: CN101627244A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 松本隆之;栗田真一 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: F16K51/02 分类号: F16K51/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陆 嘉
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 控制 狭缝 密封 压力 方法 设备
【说明书】:

技术领域

本发明的各具体实施例大体上是关于一用于在两个真空室之间对接的 狭缝阀。

背景技术

在半导体、平板显示器、光电伏打/太阳能面板,及其它基板处理系统 中,通常以一丛集、成行,或一丛集/成行组合配置的方式安排真空室(即, 负载锁室、传送室、处理室)以处理基板。此等系统可以单一或整批基板 的方式处理基板。在处理期间,基板可在各室间往来传送,各室中必须维 持真空状态或已建立真空。为允许进入该室的内部,且允许真空操作,经 常提供一狭缝形状的开口以容纳被处理的基板。该开口通常通过一门密封, 该门缩回则开启该狭缝,而移动至覆盖该狭缝的位置则密封该室。

在两个真空室之间的每一接口处,可存在一狭缝阀组件。一狭缝阀门 可以可移动地致动以开启或关闭该狭缝阀通道。该狭缝阀通道在开启时允 许在这些两个真空室之间通过该狭缝阀传送一或多个基板。当通过一狭缝 阀门闭合该狭缝阀通道时,不能在这些两个真空室之间通过该狭缝阀通道 传送基板,且这些两个真空室彼此隔离。举例而言,这些真空室其中之一 可为一需要与其它室隔离的处理室,其它室可为其它处理室或一传送室。

随着用于制造平板显示器的基板尺寸的增长,用于此等基板的制造设 备的尺寸亦变得更大。相应地,隔离一真空室(或负载锁室)与另一真空 室(或负载锁室)的门或门变得更大,或具体而言,变得更长,因为在这 些两个室之间的狭缝开口必须变得更长,以容纳通过该狭缝开口传递的大 宽度基板。该门的长度不断增加对在这些两个室之间获得良好隔离密封提 出了技术挑战,隔离密封是通过围绕该门与一室壁之间的狭缝开口布置的 一弹性密封件维护。

因此,需要有一种狭缝阀门能够密封用于处理大面积基板的室。

发明内容

本文所述的具体实施例提供一种狭缝阀组件,其包括:一狭缝阀体, 该狭缝阀体包括一第一壁及一第二壁;及一布置于该狭缝阀体内的狭缝阀 门,该狭缝阀门包括一朝向该第一壁的密封表面;一实质上平行于朝向该 第二壁的该密封表面的支撑表面,其中该支撑表面可自该密封表面向外延 伸;及一供气装置,其配置成用以改变作用在该密封表面上的一密封力。

其它具体实施例提供一种用于将两个真空室耦接在一起的装置,其包 括:一密封构件,该密封构件包括一第一面及一第二面;一耦接至该第一 面的密封件;一耦接至该第二面的可移动延伸件;一或多个耦接至该密封 构件的提升杆,每一提升杆包括一与该可移动延伸件贯通的导管;及一可 调压力的供气装置,其与一或多个这些导管贯通。

其它具体实施例提供一种方法,其包括:在一第一室及一第二室之间 布置一狭缝阀门,该狭缝阀门具有一密封表面及一实质上平行于该密封表 面的支撑表面;在该密封表面与的该支撑表面之间提供一气体以关闭该狭 缝阀门;及调整该密封表面与该支撑表面之间的距离以控制密封力。

附图说明

为可详细了解本发明的上述功能,可通过参考某些在所附图式中图解 说明的具体实施例,为以上简要说明的本发明提供一更特定的说明。但是, 应注意,所附图式仅图解说明本发明的典型具体实施例,且因此不意欲限 制其范围,因为本发明可允许其它等效的具体实施例。

图1A-1C是根据本发明的一具体实施例的一狭缝阀组件的示意剖面视 图。

图2是根据本发明的一具体实施例的示意控制图表。

为帮助理解,尽可能使用相同参考编号指示这些图式中公共的相同组 件。无须特别述及,在一具体实施例中所揭示的组件应可有利地用于其它 具体实施例。

具体实施方式

为便于说明,将参考图1A-1C对本发明的各具体实施例进行说明,图 中该真空室100a包括一传送室及该真空室100b包括一处理室。示例性传 送室及处理室可由位于美国加利福尼亚州圣克拉拉的应用材料公司 (Applied Materials,lnc.)的一分公司AKTTM提供。狭缝阀组件亦被揭示于 美国专利7,086,638中,该专利受让人为应用材料公司,且在其与本发明 内容一致的范围内通过引用方式全部并入本文。本发明应同样适用于任何 两个真空室之间,包含通过其它制造商生产的真空室。

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