[发明专利]洁净室无效
| 申请号: | 200880001528.3 | 申请日: | 2008-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN101583829A | 公开(公告)日: | 2009-11-18 |
| 发明(设计)人: | 植松克仁;松田直子;中裕之 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | F24F7/06 | 分类号: | F24F7/06 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 洁净室 | ||
1.一种洁净室,其具备排尘辅助构件,该排尘辅助构件具有与设置 在地板上的放热体的上表面对置的排尘促进面,并且上述排尘促进面与上 述放热体的上述上表面之间的距离配置成,利用上述排尘促进面,使因上 述放热体的发热而发生的从上述放热体的上述上表面上升的上升气流从 上述排尘促进面与上述放热体的上述上表面之间的间隙向间隙外排出,
并且,上述放热体的上述上表面的表面温度与上述周边气氛的温度之 间的温度差除以上述放热体的上述上表面与上述排尘辅助构件的上述排 尘促进面之间的距离所得到的值K(℃/mm)满足0.032≤K≤0.065的关系。
2.根据权利要求1所述的洁净室,其特征在于,
还具有支持上述排尘辅助构件的支持构件,
上述支持构件从与上述地板交叉的侧壁沿横方向向上述放热体的上 方延伸,支持上述排尘辅助构件。
3.根据权利要求1所述的洁净室,其特征在于,
还具有支持上述排尘辅助构件的支持构件,
上述支持构件从上述地板向上方延伸,支持上述排尘辅助构件。
4.根据权利要求1所述的洁净室,其特征在于,
还具有支持上述排尘辅助构件的支持构件,
上述支持构件从上述放热体向上方延伸,支持上述排尘辅助构件。
5.根据权利要求1所述的洁净室,其特征在于,
还具有支持上述排尘辅助构件的支持构件,
上述支持构件从与上述放热体相邻的装置向上述放热体的上方延伸, 支持上述排尘辅助构件。
6.根据权利要求1所述的洁净室,其特征在于,
还具有支持上述排尘辅助构件的支持构件,
上述支持构件从面向上述地板的顶棚支持上述排尘辅助构件。
7.根据权利要求1~6中任意一项所述的洁净室,其特征在于,
上述排尘辅助构件由箱或气密填料构成。
8.根据权利要求7所述的洁净室,其特征在于,
上述排尘辅助构件由气密填料构成,且上述排尘辅助构件被配置为能 够通过来自上述放热体的上升气流而相对上述顶棚在上下方向移动。
9.根据权利要求1~6中任意一项所述的洁净室,其特征在于,
上述排尘辅助构件的上述排尘促进面被配置为几乎覆盖上述放热体 的上述上表面的整个面。
10.一种洁净室,其具备排尘辅助构件,该排尘辅助构件具有与设置 在地板上的放热体的上表面对置的排尘促进面,并且上述排尘促进面与上 述放热体的上述上表面之间的距离配置成,利用上述排尘促进面,使因上 述放热体的发热而发生的从上述放热体的上述上表面上升的上升气流从 上述排尘促进面与上述放热体的上述上表面之间的间隙向间隙外排出,
在上述地板上设置第1放热体和比上述第1放热体温度高的第2放热体 来作为上述放热体,上述第1放热体的上表面的表面温度与上述第1放热体 周边的周边气氛温度之间的温度差大于上述第2放热体的上表面的表面温 度与上述第2放热体周边的周边气氛温度之间的温度差,
并且,上述排尘辅助构件具备:第1排尘辅助构件,其具有与上述第1 放热体的上述上表面对置的排尘促进面,且被配置为从面向上述洁净室的 顶棚向下突出;以及第2排尘辅助构件,其具有与上述第2放热体的上述上 表面对置的排尘促进面,且被配置为从面向上述洁净室的顶棚向下突出,
上述第1放热体的上述上表面与上述第1排尘辅助构件的上述排尘促 进面之间的第1距离大于上述第2放热体的上述上表面与上述第2排尘辅助 构件的上述排尘促进面之间的第2距离。
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