[实用新型]激光经纬仪测量用反光膜装置无效

专利信息
申请号: 200820033956.1 申请日: 2008-03-27
公开(公告)号: CN201191182Y 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 李翔;黄贞益;李长宏;吴胜;程丙贵;王道远;李黎明 申请(专利权)人: 南京钢铁股份有限公司;安徽工业大学
主分类号: G01C1/02 分类号: G01C1/02
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 代理人: 余成俊
地址: 22003*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 激光 经纬仪 测量 反光 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于一种激光测量设备的附件,具体是激光经纬仪测量用的反光膜装置。

背景技术

在实际工作中,大型工业设备,如轧钢机械,锻压机械,大型机床等,在安装使用一段时间后,机架往往发生变生和基础的沉降等。因此就有必要对大型设备进行必要的测量,以便制定更合理的生产工艺,也能为设备的维修,维护和补救提供可靠的数据。这些测量工作目前均是通过激光经纬仪实现的。

测量时,测量大型设备的变形时,用反光棱镜紧贴在设备的表面,激光经纬仪发射出激光照射在反光棱镜的中心点上,激光经棱镜中心点反射回激光测量仪器,激光测量仪器经计算后,得出棱镜中心点到激光测量仪器中心的三维坐标数据。

但现有的激光经纬仪的反光棱镜不能很好的与设备的工作面相接,定位精度低,造成了测量结果的不准确,而且操作不方便,大大影响了工作效率,同时也进一步的影响了测量精度。因此有必要对现有反光设备进行进一步的改造和创新。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种激光经纬仪测量用反光膜装置,采用反光膜作为反光膜装置,对激光有很好的反射,通过磁铁块作为吸附大型设备的载体,可很好的保证测量精度,操作非常简便。

本实用新型的技术方案如下:

激光经纬仪测量用反光膜装置,其特征在于采用下列结构:(1)、方形或矩形磁块或磁片表面贴有反光膜;或者(2)、直角形磁块的两内侧表面分别贴有反光膜。

本实用新型把反光薄膜粘贴固定在经过精密加工的磁性体上,在测量时把磁性体直接吸附在被测大型设备的机架上,可很好的保证测量精度,操作非常方便,效率较高,节省人力。

附图说明

图1为本实用新型一种结构示意图。

图2为本实用新型另一种结构示意图。

图3为本实用新型再一种结构示意图。

具体实施方式

例1

参见图1。

激光经纬仪测量用反光膜装置,在立方体磁块1表面贴有反射膜2。当测量大型设备正面时,用磁块1的底面吸附在测量面上,测量侧面时用磁块1的侧面吸附。可方便固定,效率高,能很好的保证测量精度。

例2

参见图2。

激光经纬仪测量用反光膜装置,在磁片3表面贴有反射膜2。测量大型设备正面时,将磁片3吸附在测量面上,以进行固定。

例3

参见图3。

激光经纬仪测量用反光膜装置,直角形磁块4的两内侧表面分别贴有反光膜2。可用于大型设备正面和侧面的测量,也可用于间隙的测量。

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