[实用新型]光罩盒及其定位件

说明书

技术领域

本实用新型是有关于一种光罩盒，特别是有关于一种具有定位件的光罩盒。

背景技术

近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需仰赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩(photo mask)。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆(silicon wafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于光罩上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形的光罩必须保持绝对洁净，其中SMIF系统的目的是为减少半导体工艺的储存及运送过程中所受的微粒过量。

如图1所示，为一公知的光罩盒1，其由上盖体11与下盖体12所组合而成，其中在上盖体11与下盖体12内各角落的位置，设有复数个定位件13，此定位件13设置的方式为两两一对，且大致呈直角状配置，而配置于上盖体11的定位件13与配置于下盖体12的定位件13亦大致设于可对应的相对位置。当光罩置于下盖体12内时，光罩盒1的上盖体11与下盖体12盖合，配置于光罩盒1内的定位件13将可顶持并扣压光罩，将光罩固定于光罩盒1内，以避免移动光罩盒1时产生震动，而导致光罩盒1内的光罩损坏。其中，由于定位件13是以个别方式设置于光罩盒1内，因此在固设定位件13于光罩盒1的上盖体11与下盖体12时，不但在两两配置时易产生对位的误差，甚至于在上盖体11与下盖体12配置定位件13的相对位置上，也容易产生误差，因此当上盖体11与下盖体12盖合时，容易因定位件13的对位误差，而导致光罩压毁或产生磨损，进而影响光罩的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光罩盒及其定位件，以克服公知技术中存在的缺陷。

为实现上述目的，本实用新型提供的光罩盒，其包含：

一上盖体；

一下盖体，用以与该上盖体组合，形成一内部空间可容纳光罩；以及至少一定位件，设于该上盖体或该下盖体内的角落，用以固定该光罩，其中，该定位件包括：

一座体，以至少一支撑点固接于该光罩盒的上盖体及下盖体内各角落的位置，其中该座体大致呈L状；以及

一固定组件，设置于该座体上，该固定组件包括一顶持面及一扣压面；

其中，当该光罩盒承载一光罩且盖合时，该固定组件的该顶持面及该扣压面于盖合时会与该光罩接触并固定。

所述的光罩盒，其中该固定组件可为一弯曲弹性结构，其一弯曲的端部结合于该座体上，另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该单或复数个支撑点之间。

所述的光罩盒，其中该固定组件可为一弯曲弹性结构，其第一弯曲的端部结合于该座体上，第二弯曲的端部具有一顶持面，第三弯曲的端部具有一扣压面。

所述的光罩盒，其中该定位件具有至少一个固定组件。

所述的光罩盒，其中该定位件为一高分子材料所形成。

所述的光罩盒，其中该定位件的座体通过定位手段，固定于上盖体或下盖体内所设置的定位点上。

所述的光罩盒，其中该光罩盒上盖体或下盖体的材质大致可为金属材质或高分子材料所形成。

所述的光罩盒，其中该光罩盒的金属材质大致可为不锈钢、铝合金或镁合金。

所述的光罩盒，其可为光罩传送盒或光罩保存盒。

本实用新型提供的用于上述光罩盒的定位件，其结构包括：

一座体，以至少一个支撑点固接于该光罩盒的上盖体及下盖体内各角落的位置，其中该座体大致呈L状；以及

一固定组件，设置于该座体上，该固定组件包括一顶持面及一扣压面；其中，当该光罩盒承载一光罩且盖合时，该固定组件的该顶持面及该扣压面于盖合时会与该光罩接触并固定。

本实用新型的效果如下：

1)其定位件可降低制造过程中对位的困难。

2)其定位件可降低对位的误差。

3)其定位件可提高光罩导入光罩盒的容易度。

4)其定位件可有效固定光罩，以减少光罩与光罩盒的摩擦，进而减少尘粒形成而影响良率。

附图说明

图1是公知技术光罩盒的示意图。

图2是本实用新型光罩盒的一实施例示意图。

图3A至图3D是本实用新型定位件的一实施例示意图。

图4A至图3C是本实用新型定位件座体固定方式的一实施例示意图。

附图中主要组件符号说明：

1光罩传送盒

11上盖体

12下盖体

13定位件