[实用新型]可发光辅助校准的定位装置

权利要求书

1.一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括：

一机台；

一工作承座，设于该机台上；

一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构具有一第一面及一第二面；

至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝该第二面的方向发光；

一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括：

一吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上；

一第一气孔，开设于该定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道；

一第二气孔，开设于该定位结构的第一面上；

一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力；

一工作气体供应部，设于该定位结构内部，其包括：

多个第三气孔，开设于该定位结构的第二面上，且围绕于该吸引槽道外周；

一第四气孔，开设于该定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔。

2.根据权利要求1所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于：

所述真空吸引部又包括一真空产生装置，该真空产生装置连通该第二气孔；

所述工作气体供应部又包括一气压源，该气压源连通该第四气孔。

3.根据权利要求2所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于：

所述定位结构的第二面用以设置一第一工件，该第一工件至少具有一可辅助背光的第一标号，该第一标号对准该发光部发出的光线而呈辅助背光状；

所述真空产生装置产生一吸力，并经该通气道、该第一气孔，而通过该吸引槽道吸引该第一工件，使该第一工件附着于该定位结构的第二面；借此，使一第二工件可于该第一工件上移动，该第二工件上对应该第一标号而具有至少一个可辅助背光的第二标号；

所述气压源经该第四气孔而朝该第三气孔输出预定气体；

所述预定气体为氮气。

4.根据权利要求1所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于：

所述定位结构由一第一结构及一第二结构组成；

所述发光部、所述真空吸引部与所述工作气体供应部分别设置于该第一、第二结构上；

所述工作气体供应部包括：

多个上气道，对应该多个第三气孔而设于该定位结构内部；

多个中气道，对应该上气道而设于该定位结构内部；

多个下气道，对应该中气道而设于该定位结构内部；

又，该第四气孔连通该多个下气道。

5.根据权利要求4所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于：所述发光部设多个。