[发明专利]一种晶片及验证缺陷扫描机台的方法

权利要求书

1.一种验证缺陷扫描机台的方法，其特征在于，包括：

在使用标准片验证合格后的缺陷扫描机台上，扫描晶片本体表面带有颗粒的定期测试晶片，记录定期测试晶片上的颗粒参数作为标准颗粒参数；

在之后缺陷扫描机台日常监控中，将定期测试晶片在缺陷扫描机台上扫描，记录颗粒参数；

比较日常监控中记录的颗粒参数和标准参数的差值，若在设定的阈值范围内，则缺陷扫描机台检测合格，反之则不合格。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在缺陷扫描机台日常监控步骤前还包括：

在定期测试晶片表面生长覆盖膜层。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在验证合格后的机台上扫描定期测试晶片步骤前还包括：

在定期测试晶片表面生长覆盖膜层，所述覆盖膜层为透明或半透明膜。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述覆盖膜层为氮化硅膜。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述覆盖膜层厚度小于0.5微米。