[发明专利]一种镍酸镧陶瓷靶的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810230966.9 申请日: 2008-11-20
公开(公告)号: CN101712549A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 陈红举;张婷;丁玲红;张伟风 申请(专利权)人: 河南大学
主分类号: C04B35/50 分类号: C04B35/50;C04B35/622
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 陈浩
地址: 475001*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 镍酸镧 陶瓷 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种金属氧化物陶瓷靶的制备方法,特别是一种镍酸镧陶瓷 靶的制备方法,属于微电子材料制备技术领域。

背景技术

镍酸镧(LaNiO3,简称LNO)薄膜主要用于铁电薄膜钛酸锶钡(BST) 和锆钛酸铅(PZT)电容器的电极材料,应用于微电子学和光电子学。目前, 常用的方法之一是采用Pt或以Pt为基础的金属薄膜作为电极材料如 Pt/Ti/SiO2/Si,但由于金属本身的性质会导致一些问题,从而导致器件性能下 降,例如:Pt薄膜和Si衬底结合不紧密;采用Ti作为粘合层,Pt层和Ti层 相互扩散,导致铁电性能下降;采用Pt薄膜作为电极的铁电电容器表现为明 显的疲劳现象。会引起BST、PZT电容器的老化、疲劳、损耗增大及信号衰 减和功率下降等问题。LNO薄膜具有良好的导电性,以及与BST、PZT之间 粘结力强于Pt电极,晶格匹配性好,抗疲劳和老化性能也好,所以目前铁电 存储器件和多层驱动器也常采用LNO作为电极、缓冲层或过渡层材料。

制备LNO薄膜方法常用的有化学方法和物理方法,其中用物理方法制备 LNO薄膜时,常用的方法有脉冲激光溅射(PLD)、磁控溅射(RF)、分子束 外延生长(MBE),其中所用的靶源为LNO陶瓷靶。

制备LNO陶瓷靶的方法有很多种,最常用的制备LNO陶瓷靶方法为固 相法:将氧化镧(La2O3)和氧化镍(NiO)碾磨、压靶、烧结而成。但所制 LNO陶瓷靶成分比较复杂,其原因为一方面如果焙烧温度低,La2O3和NiO 达不到反应条件,不能生成LNO;另一方面如果焙烧温度高,LNO中的Ni3+在高温下得到一个电子被还原而转变成Ni2+,使LNO分解,其分解方程式为:

中国专利号ZL200510021161.X,名称为“导电氧化物电极材料及其制备 方法”中公开了一种LNO陶瓷靶的制备方法,该方法先用柠檬酸法制LaNiO3粉末,然后,将LaNiO3粉末在120Mpa下冷压成φ60×3的圆片,并在箱式 电炉中,将圆片在1500℃的温度下烧结6小时,最终得到致密的LaNiO3陶瓷 靶。但通过试验表明:当烧结温度高于1150℃时,所制得的陶瓷靶己经为较 明显的混杂相。

由此可知要想制备较理想的LNO陶瓷靶,必须阻止LNO中的Ni3+被还 原成Ni2+,同时也要确保制靶原料的纯度。

发明内容

本发明的任务是提供一种镍酸镧陶瓷靶的制备方法,提高镍酸镧陶瓷靶 的质量,以制备出高质量的LNO薄膜。

为了实现以上目的,本发明所采用的技术方案是:一种镍酸镧陶瓷靶的 制备方法,包括如下步骤:

(1)镍酸镧(LNO)粉末制备:

①称取硝酸镧、硝酸镍,使摩尔比为1:1,加入柠檬酸,混溶于去离子 水中,搅拌并在80~100℃保持2~4小时,得到溶胶,然后将溶胶置于130~150 ℃中干燥10~12小时,得到干凝胶;

②将干凝胶进行焙烧,焙烧温度由室温逐步升至750~800℃,然后自然降 温至室温,碾磨得到LNO粉末;

(2)靶片压制:

③将中的LNO粉末冷压成型,制成LNO陶瓷靶,压力为120~150兆帕; (3)烧结成靶:

④将制得的LNO陶瓷靶进行预烧脱胶,预烧温度由室温逐步升至 650~800℃,然后自然降温至室温;

⑤将脱胶的LNO陶瓷靶进行烧结,烧结方式为:将LNO陶瓷靶在常压、 常气氛中750~800℃烧结24~48小时,然后在常压、常气氛或者氧气气氛中 950~1100℃烧结1~2小时。

所述的氧气的压力为0.1~1.0MPa。

所述的氧气的纯度大于99.0%。

步骤②中所述焙烧的逐步升温的过程为:室温→200~250℃保持1.5~2小 时→400~450℃保持3~4小时→750~800℃保持2~4小时。

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