[发明专利]一种镍酸镧陶瓷靶的制备方法无效
| 申请号: | 200810230966.9 | 申请日: | 2008-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN101712549A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
| 发明(设计)人: | 陈红举;张婷;丁玲红;张伟风 | 申请(专利权)人: | 河南大学 |
| 主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C04B35/622 |
| 代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人: | 陈浩 |
| 地址: | 475001*** | 国省代码: | 河南;41 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 镍酸镧 陶瓷 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种金属氧化物陶瓷靶的制备方法,特别是一种镍酸镧陶瓷 靶的制备方法,属于微电子材料制备技术领域。
背景技术
镍酸镧(LaNiO3,简称LNO)薄膜主要用于铁电薄膜钛酸锶钡(BST) 和锆钛酸铅(PZT)电容器的电极材料,应用于微电子学和光电子学。目前, 常用的方法之一是采用Pt或以Pt为基础的金属薄膜作为电极材料如 Pt/Ti/SiO2/Si,但由于金属本身的性质会导致一些问题,从而导致器件性能下 降,例如:Pt薄膜和Si衬底结合不紧密;采用Ti作为粘合层,Pt层和Ti层 相互扩散,导致铁电性能下降;采用Pt薄膜作为电极的铁电电容器表现为明 显的疲劳现象。会引起BST、PZT电容器的老化、疲劳、损耗增大及信号衰 减和功率下降等问题。LNO薄膜具有良好的导电性,以及与BST、PZT之间 粘结力强于Pt电极,晶格匹配性好,抗疲劳和老化性能也好,所以目前铁电 存储器件和多层驱动器也常采用LNO作为电极、缓冲层或过渡层材料。
制备LNO薄膜方法常用的有化学方法和物理方法,其中用物理方法制备 LNO薄膜时,常用的方法有脉冲激光溅射(PLD)、磁控溅射(RF)、分子束 外延生长(MBE),其中所用的靶源为LNO陶瓷靶。
制备LNO陶瓷靶的方法有很多种,最常用的制备LNO陶瓷靶方法为固 相法:将氧化镧(La2O3)和氧化镍(NiO)碾磨、压靶、烧结而成。但所制 LNO陶瓷靶成分比较复杂,其原因为一方面如果焙烧温度低,La2O3和NiO 达不到反应条件,不能生成LNO;另一方面如果焙烧温度高,LNO中的Ni3+在高温下得到一个电子被还原而转变成Ni2+,使LNO分解,其分解方程式为:
中国专利号ZL200510021161.X,名称为“导电氧化物电极材料及其制备 方法”中公开了一种LNO陶瓷靶的制备方法,该方法先用柠檬酸法制LaNiO3粉末,然后,将LaNiO3粉末在120Mpa下冷压成φ60×3的圆片,并在箱式 电炉中,将圆片在1500℃的温度下烧结6小时,最终得到致密的LaNiO3陶瓷 靶。但通过试验表明:当烧结温度高于1150℃时,所制得的陶瓷靶己经为较 明显的混杂相。
由此可知要想制备较理想的LNO陶瓷靶,必须阻止LNO中的Ni3+被还 原成Ni2+,同时也要确保制靶原料的纯度。
发明内容
本发明的任务是提供一种镍酸镧陶瓷靶的制备方法,提高镍酸镧陶瓷靶 的质量,以制备出高质量的LNO薄膜。
为了实现以上目的,本发明所采用的技术方案是:一种镍酸镧陶瓷靶的 制备方法,包括如下步骤:
(1)镍酸镧(LNO)粉末制备:
①称取硝酸镧、硝酸镍,使摩尔比为1:1,加入柠檬酸,混溶于去离子 水中,搅拌并在80~100℃保持2~4小时,得到溶胶,然后将溶胶置于130~150 ℃中干燥10~12小时,得到干凝胶;
②将干凝胶进行焙烧,焙烧温度由室温逐步升至750~800℃,然后自然降 温至室温,碾磨得到LNO粉末;
(2)靶片压制:
③将中的LNO粉末冷压成型,制成LNO陶瓷靶,压力为120~150兆帕; (3)烧结成靶:
④将制得的LNO陶瓷靶进行预烧脱胶,预烧温度由室温逐步升至 650~800℃,然后自然降温至室温;
⑤将脱胶的LNO陶瓷靶进行烧结,烧结方式为:将LNO陶瓷靶在常压、 常气氛中750~800℃烧结24~48小时,然后在常压、常气氛或者氧气气氛中 950~1100℃烧结1~2小时。
所述的氧气的压力为0.1~1.0MPa。
所述的氧气的纯度大于99.0%。
步骤②中所述焙烧的逐步升温的过程为:室温→200~250℃保持1.5~2小 时→400~450℃保持3~4小时→750~800℃保持2~4小时。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南大学,未经河南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810230966.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





