[发明专利]成像装置以及曝光影像偏差的校正方法无效

专利信息
申请号: 200810217648.9 申请日: 2008-11-25
公开(公告)号: CN101480880A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 高云峰;孙海翔 申请(专利权)人: 深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数码影像技术有限公司
主分类号: B41J2/435 分类号: B41J2/435;B41J29/393
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 代理人: 胡吉科
地址: 518057广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 成像 装置 以及 曝光 影像 偏差 校正 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种控制方法,特别是一种曝光影像偏差的校正方法以及采用该方法的成像装置。

背景技术

近年来,计算机直接制版(Computer to plate,CTP)技术受到了广泛的应用。CTP是一种数字化印版成像过程,CTP直接制版机一般用计算机直接控制,用激光扫描成像,再经过显影、定影生成直接可上机印刷的印版。外鼓式CTP是比较常用的一种曝光结构,其包括圆柱体的成像鼓,安装在成像鼓表面的印版以及沿圆柱体轴线做扫描运动的曝光模块。

但是,外鼓式CTP存在的一个问题就是曝光模块产生的相邻曝光影像拼接不准,会出现空隙线或重叠线,要想达到理想的拼接效果其成像的精度要求在3um以内。但由于其核心部件成像鼓的加工难度大,容易出现枕形、鼓形、弯曲等变形及X轴导轨的加工产生的弯曲或者安装误差,很难保证达到理想的曝光效果。因此如何对成像装置中的曝光影像偏差进行校正,以提高成像质量就成为业界急需解决的问题。

发明内容

为了克服上述现有技术的不足,本发明提供一种可以在现有硬件水平的基础下,对出现曝光影像偏差进行校正的曝光影像偏差的校正方法。

为了克服上述现有技术的不足,本发明提供一种可以在现有硬件水平的基础下,对出现曝光影像偏差进行校正的成像装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种曝光影像偏差的校正方法,其包括以下步骤:

(a)通过影像检测装置对成像面上的测试版进行采样检测,获得曝光模块在成像面上的实际曝光影像的位置数据;

(b)生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;

(c)按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光时的运动,进行补偿校正。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:步骤(b)中,通过所述的曝光模块在成像面上的实际曝光影像的位置数据与理论曝光位置数据进行对比,生成圆柱体成像鼓的不同转角位置对应承载各曝光模块沿副扫描方向运动的电机的补偿步数。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:步骤(c)中,提供一设置在圆柱体成像鼓一侧的旋转编码器,控制该旋转编码器读出位置坐标,确定相应的补偿步数,形成所述电机的驱动信号,使所述电机按照圆柱体成像鼓的不同角度、各曝光模块的不同位置使用不同步数驱动。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:步骤(a),影像检测装置对各曝光模块的曝光影像之间的沿副扫描方向上拼接位置处的曝光影像进行检测。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:所述的影像检测装置包括影像传感器、光学透镜组以及激光二极体。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:所述的激光二极体发射激光到成像面上设定的检测的区域形成类似圆形的光斑,影像传感器通过该光学透镜组吸收漫反射的光线,从而采集检测区域的影像。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:成像鼓每旋转1°,对曝光装置沿副扫描方向的运动位移校正一次。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:所述的成像面是成像鼓的外表面,该成像面覆有感光材料。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:所述的成像鼓为外鼓式圆柱体成像鼓,内鼓式或平台式。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种成像装置,其包括圆柱体的成像鼓,安装在成像鼓表面的成像面以及沿圆柱体轴线做扫描运动的曝光模块,其进一步包括影像检测装置以及数据处理系统,该影像检测装置对成像面上的曝光影像进行检测得到实际曝光影像的位置数据,所述的数据处理系统将实际曝光影像的位置数据与理论曝光位置数据进行对比,并根据该对比结果控制曝光模块的运动。

相较于现有技术,本发明的曝光影像偏差的校正方法以及采用该方法的成像装置通过影像检测装置对实际的曝光影像的位置数据进行检测,生成补偿校正的曝光控制信息,并以此对曝光模块的运动进行控制,实现校正。

附图说明

图1是本发明成像装置的立体结构示意图;

图2是本发明曝光影像偏差的校正方法的信号流程图;

图3是本发明的成像装置的平面结构示意图;

图4是本发明影像检测装置的工作原理示意图;

图5是本发明曝光影像偏差的校正分析示意图。

具体实施方式

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