[发明专利]一种面阵曝光装置及其曝光方法

权利要求书

1.一种面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：

移动步骤：面阵曝光装置的曝光头在第N曝光位置处对待曝光图像的第N图像块进行曝光后移动到相邻的第N+1预设曝光位置附近，其中N为正整数；

检测调整步骤：检测曝光头所停止的位置，判断曝光头所停止的位置是否为像素的整数倍，当是则进入曝光步骤，当不是则对曝光头的位置进行微调，以使曝光头停止在离检测处一个像素距离范围内的像素的整数倍位置再进入曝光步骤；所述曝光头停止在像素的整数倍位置处即为实际曝光位置处；

曝光步骤：在第N+1实际曝光位置处对第N+1图像块进行曝光，所述第N+1图像块的起点衔接第N图像块的终点；

重复上述步骤，直至将待曝光图像曝光完毕。

2.根据权利要求1所述的面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于：所述曝光步骤中，将第N+1图像块的实际曝光宽度调整成：d1＝d-d*Δs/s，其中d1为曝光头的实际曝光宽度，d为曝光头的预设曝光宽度，s为曝光头从第N曝光位置处移动到第N+1预设曝光位置处的理论位移，Δs为传感器测得的第N+1实际曝光位置处与第N+1预设曝光位置处的差值。

3.根据权利要求2所述的面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于：所述待曝光图像以堆栈的形式存储在面阵曝光装置的存储器中，存储器内设置堆栈指针和参数指针，所述堆栈指针指向图像块的实际曝光起始位置，所述参数指针指向所述图像块的实际曝光终点位置，第N+1图像块的堆栈指针与第N图像块的参数指针的指向位置相同。

4.根据权利要求3所述的面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于：在曝光步骤之前调整存储器中的第N+1图像块的参数指针的位置，以将第N+1图像块的实际曝光宽度调整成：d1＝d-d*Δs/s。

5.根据权利要求1-4任一所述的面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于：所述面阵曝光装置的分像器将待曝光图像分割成至少两个带状局部图像，所述带状局部图像存储在面阵曝光装置的存储器中；各个带状局部图像包括至少两个图像块，相邻的带状局部图像相互无缝地拼接；所述曝光头依次对各个带状局部图像进行曝光。

6.根据权利要求5所述的面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于：所述带状局部图像以堆栈的形式存储在所述存储器中，同一带状局部图像的相邻的第N图像块和第N+1图像块满足如下关系：第N+1图像块的堆栈指针与第N图像块的参数指针的指向位置相同。

7.一种面阵曝光装置，其特征在于，包括：存储器、曝光头(14)、运动单元、传感器(13)、控制器；所述存储器内存储有待曝光图像，所述运动单元驱动曝光头(14)从第N曝光位置处移动到相邻的第N+1预设曝光位置附近；所述传感器(13)检测曝光头(14)所停止的位置并输出至控制器；所述控制器判断所述曝光头(14)所停止的位置是否为像素的整数倍，当是则控制曝光头对第N+1图像块进行曝光，当不是则控制运动单元微调曝光头(14)使曝光头停止在像素的整数倍位置、再控制曝光头对第N+1图像块进行曝光；所述第N+1图像块的起点衔接第N图像块的终点，其中N为正整数。

8.根据权利要求7所述的面阵曝光装置，其特征在于：所述运动单元包括X方向运动单元和Y方向运动单元；所述X方向运动单元包括步进电机(10)、第一滚珠丝杆(11)、第一滑动导轨(12)，曝光头(14)可滑动地设置在第一滑动导轨(12)上，步进电机(10)通过第一滚珠丝杆(11)，驱动曝光头(14)在第一滑动导轨(12)上运动；所述Y方向运动单元包括移动平台(1)、成像面(2)、伺服电机(3)、第二滚珠丝杆(4)、第二滑动导轨(5)，覆有感光材料的成像面(2)装在移动平台(1)上，移动平台(1)可滑动地设置在第二滑动导轨(5)上，伺服电机(3)通过第二滚珠丝杆(4)驱动移动平台(1)在第二滑动导轨(5)上运动。

9.根据权利要求8所述的面阵曝光装置，其特征在于：所述曝光头(14)包括光调制器(15)、光纤(16)、成像器件(17)和透镜组(18)，光束通过光调制器(15)的调制，经光纤(16)投射到成像器件(17)上、经由成像器件(17)反射的光束通过透镜组(18)照射到所述成像面(2)上。

10.根据权利要求7-9任一所述的面阵曝光装置，其特征在于：所述待曝光图像以堆栈的形式存储在所述存储器中，存储器内设置堆栈指针和参数指针，所述堆栈指针指向图像块的曝光起始位置，所述参数指针指向所述图像块的曝光终点位置，第N+1图像块的堆栈指针与第N图像块的参数指针的指向位置相同。