[发明专利]一种厚膜光刻胶清洗剂无效
| 申请号: | 200810202490.8 | 申请日: | 2008-11-10 |
| 公开(公告)号: | CN101738880A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
| 发明(设计)人: | 史永涛;彭洪修;曹惠英 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
| 代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光刻 洗剂 | ||
1.一种厚膜光刻胶清洗剂,其特征在于:其包含二甲基亚砜、氢氧化钾、醇胺、烷基二醇芳基醚和聚丙烯酸类缓蚀剂,其中烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3~18。
2.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量的为质量百分比1~97%。
3.如权利要求2所述的清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量的为质量百分比30~90%。
4.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1~5%。
5.如权利要求4所述的清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比1~4%。
6.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的醇胺的含量为质量百分比0.1~50%。
7.如权利要求6所述的清洗剂,其特征在于:所述的醇胺的含量为质量百分比0.5~35%。
8.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的烷基二醇芳基醚的含量为质量百分比1~50%。
9.如权利要求8所述的清洗剂,其特征在于:所述的烷基二醇芳基醚的含量为质量百分比5~30%。
10.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚丙烯酸类缓蚀剂的含量为质量百分比0.001~5%。
11.如权利要求10所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚丙烯酸类缓蚀剂的含量为质量百分比0.05~2.5%。
12.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的醇胺为一乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丙醇胺、甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺和羟乙基乙二胺中的一种或多种。
13.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的烷基二醇芳基醚为丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、三乙二醇单苯基醚、三丙二醇单苯基醚、三异丙二醇单苯基醚、六缩乙二醇单苯基醚、六缩丙二醇单苯基醚、六缩异丙二醇单苯基醚、丙二醇单苄基醚、异丙二醇单苄基醚和己二醇单萘基醚中的一种或多种。
14.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚丙烯酸类缓蚀剂为聚丙烯酸、丙烯酸共聚物、聚甲基丙烯酸、甲基丙烯酸共聚物、聚丙烯酸的醇胺盐、丙烯酸共聚物的醇胺盐、聚甲基丙烯酸的醇胺盐、甲基丙烯酸共聚物的醇胺盐、聚氧乙烯改性的丙烯酸聚合物、聚氧乙烯改性的丙烯酸酯聚合物、聚氧乙烯改性的丙烯酸聚合物醇铵盐、聚氧乙烯改性的甲基丙烯酸聚合物、聚氧乙烯改性的甲基丙烯酸酯聚合物、和聚氧乙烯改性的甲基丙烯酸聚合物醇铵盐中的一种或多种。
15.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚丙烯酸类缓蚀剂的数均分子量为500~100000。
16.如权利要求15所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚丙烯酸类缓蚀剂的数均分子量为1000~50000。
17.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的厚膜光刻胶清洗剂还包含氨基唑类缓蚀剂、极性有机共溶剂、表面活性剂、以及除聚丙烯酸类缓蚀剂和氨基唑类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。
18.如权利要求17所述的清洗剂,其特征在于:所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0.01~5%;所述的极性有机共溶剂含量为质量百分比≤50%;所述的表面活性剂含量为质量百分比≤5%;所述的除聚丙烯酸类缓蚀剂和氨基唑类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂含量为质量百分比≤5.0%;上述质量百分比不包括0%。
19.如权利要求18所述的清洗剂,其特征在于:所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0.05~2.5%;所述的极性有机共溶剂含量为质量百分比5~30%;所述的表面活性剂含量为质量百分比0.05~3.0%;所述的除聚丙烯酸类缓蚀剂和氨基唑类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂含量为质量百分比0.05~3.0%。
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