[发明专利]柔性有机电致发光显示器件及其制造方法有效
| 申请号: | 200810186188.8 | 申请日: | 2008-12-19 |
| 公开(公告)号: | CN101577289A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
| 发明(设计)人: | 崔洛奉;柳俊锡 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/82 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 柔性 有机 电致发光 显示 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一种柔性有机电致发光器件,包括:
0.05mm~0.2mm厚度的基板;
在所述基板上的平整层;
在所述平整层上的薄膜晶体管;
在所述平整层和所述薄膜晶体管上的钝化层,其具有暴露所述薄膜晶体管的漏极的接触孔;
在所述钝化层上的反射层;
在所述反射层上的阳极,其与所述薄膜晶体管的所述漏极电连接;
在所述阳极的边缘区域和所述钝化层上的围堰层,其包括有机材料;
在所述阳极上的有机发光层;
在所述围堰层和所述有机发光层上的阴极;和
在所述阴极上的密封层,其包括有机膜、无机膜、粘结膜和保护膜。
2.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述基板包括不锈钢。
3.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述平整层包括:
在所述基板上的有机膜,其具有3mm~5mm的厚度,以弥补所述基板的表面粗糙性;和
在所述有机膜上的无机膜,其具有100~300的厚度。
4.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述钝化层包括:
在所述平整层和所述薄膜晶体管上的无机膜,其具有100~3000的厚度;和
设置在所述无机膜上的有机膜,其具有500~3mm的厚度。
5.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述围堰层是500~3mm的厚度。
6.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述有机膜是200~1000的厚度,所述无机膜是500~700的厚度。
7.根据权利要求6所述的柔性有机电致发光器件,其中所述有机膜包括从由小分子有机材料和高分子有机材料组成的组中选出的一种材料,所述无机膜包括铝的氧化物和氧化硅中的一种材料。
8.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述粘结膜包括吸湿剂。
9.根据权利要求1所述的柔性有机电致发光器件,其中所述阳极和阴极包括透明材料。
10.一种制造柔性有机电致发光器件的方法,包括:
在0.4mm~1mm厚度的基板上形成平整层;
在所述平整层上形成薄膜晶体管;
在所述平整层和所述薄膜晶体管上形成钝化层,其具有暴露所述薄膜晶体管的漏极的接触孔;
在所述钝化层上形成反射层;
在所述反射层上形成与所述薄膜晶体管的所述漏极电连接的阳极;
在所述阳极电极的边缘区域和所述钝化层上形成包括有机材料的围堰层;
在所述阳极上形成有机发光层;
在所述围堰层和所述有机发光层上形成阴极;和
在所述阴极上形成包括有机膜、无机膜、粘结膜和保护膜的密封层;以及
蚀刻所述基板的后侧,直到所述基板的厚度在0.05mm~0.2mm的范围内为止。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





