[发明专利]曝光装置及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，该曝光装置在投影光学系统和衬底之间的空间中供给液体，用能量束照射图案，并通过所述投影光学系统和所述液体将所述图案转印到所述衬底上，所述曝光装置包括：

第一台，在该第一台处形成所述衬底的安置区域，并且所述安置区域周围的区域的表面设置成与安置在所述安置区域上的衬底的表面齐平，所述第一台能够在包括第一区域和第二区域的预定范围的区域内移动，其中所述第一区域包含在所述投影光学系统正下方供给所述液体的位置，所述第二区域位于所述第一区域的轴向的一侧；

第二台，该第二台的表面设置成与所述衬底的表面齐平，所述第二台能够独立于所述第一台在包括所述第一区域和所述第二区域的区域内移动；和

台座驱动系统，该台座驱动系统驱动所述第一台和所述第二台，并还在维持两个台在所述轴向上接近在一起或两个台在所述轴向上接触的状态的同时，在从所述台中的一个台位于所述第一区域的第一状态向另一个台位于所述第一区域的第二状态过渡时，沿所述轴向从所述第二区域侧向所述第一区域侧同时驱动所述第一台和所述第二台。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其中

在所述第二台上形成所述衬底的安置区域，并且将所述第二台设置成使得所述第二台的包括安置在所述安置区域上的所述衬底的表面在内的表面是齐平的。

3.如权利要求2所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

校准系统，该校准系统探测衬底上的校准标记，其中

在所述过渡操作中，把曝光后的衬底安置在所述台中的所述一个台上，而在所述另一个台上安置由所述校准系统进行标记探测之后的衬底。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其中

在进行对多个衬底的曝光处理序列时，所述第一台和所述第二台中的至少一个台经所述液体恒定地面对所述投影光学系统。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其中

分别对每个台测量所述第一台和所述第二台的二维位置。

6.如权利要求5所述的曝光装置，其中

在进行对多个衬底的曝光处理序列时，所述第一台和所述第二台中的至少一个台经所述液体恒定地面对所述投影光学系统。

7.如权利要求1所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

布置在所述投影光学系统的像平面侧上的液压静力轴承单元，所述单元包括至少一个液压静力轴承，所述至少一个液压静力轴承在面对安置在位于所述第一区域中的台上的所述衬底的轴承表面与所述衬底之间的空间中供给液体，并且当所述第一台和所述第二台中的一个台位于所述第一区域中时，所述至少一个液压静力轴承通过所述液体的静压维持在所述轴承表面与所述衬底的表面之间的间距。

8.一种曝光装置，该曝光装置在投影光学系统和衬底之间的空间中供给液体，用能量束照射图案，并通过所述投影光学系统和所述液体将所述图案转印到所述衬底上，所述曝光装置包括：

第一台，在该第一台处形成衬底的安置区域，所述第一台能够在包括第一区域和第二区域的预定范围的区域内移动，其中所述第一区域包含在所述投影光学系统正下方供给所述液体的位置，所述第二区域位于所述第一区域的轴向的一侧；

第二台，在该第二台处形成衬底的安置区域，所述第二台能够独立于所述第一台在包括所述第一区域和所述第二区域的区域内移动；和

台座驱动系统，该台座驱动系统驱动所述第一台和所述第二台，并还在维持两个台在所述轴向上接近在一起或两个台在所述轴向上接触的状态的同时，在从所述台中的一个台位于所述第一区域的第一状态向另一个台位于所述第一区域的第二状态过渡时，沿所述轴向从所述第二区域侧向所述第一区域侧同时驱动所述第一台和所述第二台，由此所述液体的浸入区域维持在所述投影光学系统下。

9.如权利要求8所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

校准系统，该校准系统探测衬底上的校准标记，其中

在所述过渡操作中，把曝光后的衬底安置在所述台中的所述一个台上，而在所述另一个台上安置由所述校准系统进行标记探测之后的衬底。

10.如权利要求9所述的曝光装置，其中

在进行对多个衬底的曝光处理序列时，所述第一台和所述第二台中的至少一个台经所述液体恒定地面对所述投影光学系统。