[发明专利]阶梯式电容结构、其制造方法、及应用其的基板有效

专利信息
申请号: 200810184389.4 申请日: 2008-12-10
公开(公告)号: CN101458994A 公开(公告)日: 2009-06-17
发明(设计)人: 李明林;吴仕先;赖信助;刘淑芬 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01G4/35 分类号: H01G4/35;H01G4/38;H01L23/488;H01L23/498;H05K1/16;H05K3/46
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 彭久云
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 阶梯 电容 结构 制造 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种阶梯式电容结构,包括:

上层导体层、中间介电层、以及下层导体层,其中该上层导体层和该下 层导体层中至少有一导体层的截面为阶梯状,

上层介电层,安置于该上层导体层上方;

下层介电层,安置于该下层导体层下方;

第一导孔,上端连接该上层导体层,且穿过该上层介电层,更穿过该下 层介电层,且与该下层导体层电性绝缘;以及

第二导孔,下端连接该下层导体层,且穿过该上层介电层,更穿过该下 层介电层,且与该上层导体层电性绝缘,

其中该第一导孔,形成第一底部连接导体于该阶梯式电容结构的下端表 面;该第二导孔,形成第二底部连接导体于该阶梯式电容结构的下端表面。

2.如权利要求1所述的阶梯式电容结构,其中该下层导体层的截面为阶 梯状。

3.如权利要求2所述的阶梯式电容结构,其中该阶梯状至少包含第一阶 与第二阶,该第一阶具有第一上表面,该第二阶具有第二上表面,且该第二 上表面高于该第一上表面。

4.如权利要求3所述的阶梯式电容结构,其中该第二阶位于该第一阶上 面。

5.如权利要求4所述的阶梯式电容结构,其中该第二阶为一组以上,相 邻间隔位于在该第一阶上面。

6.如权利要求4所述的阶梯式电容结构,其中该阶梯状还包含第三阶, 且具有第三上表面,位于该第一阶上表面且与该第二阶相邻,该第三上表面 高于该第二上表面。

7.如权利要求6所述的阶梯式电容结构,其中该第三阶与该第二阶以距 离间隔相邻。

8.如权利要求4所述的阶梯式电容结构,其中该阶梯状还包含第三阶, 位于该第二阶上表面。

9.如权利要求3所述的阶梯式电容结构,其中该上层导体层,其截面呈 倒阶梯状。

10.如权利要求9所述的阶梯式电容结构,其中该倒阶梯状至少包含第一 倒阶梯与第二倒阶梯,该第一倒阶梯具有第一下表面,该第二倒阶梯具有第 二下表面,且所述的第二下表面低于所述的第一下表面。

11.一种阶梯式电容结构,包括:

上层导体层、中间介电层、以及下层导体层,其中该下层导体层的截面 为阶梯状,该上层导体层的截面呈倒阶梯状,其中

该阶梯状至少包含第一阶与第二阶,该第一阶具有第一上表面,该第二 阶具有第二上表面,且该第二上表面高于该第一上表面,

该倒阶梯状至少包含第一倒阶梯与第二倒阶梯,该第一倒阶梯具有第一 下表面,该第二倒阶梯具有第二下表面,且所述的第二下表面低于所述的第 一下表面,其中该第二下表面与该第二上表面呈对位安置。

12.一种阶梯式电容结构,包括:

上层导体层、中间介电层、以及下层导体层,其中该下层导体层的截面 为阶梯状,该上层导体层的截面呈倒阶梯状,其中

该阶梯状至少包含第一阶与第二阶,该第一阶具有第一上表面,该第二 阶具有第二上表面,且该第二上表面高于该第一上表面,

该倒阶梯状至少包含第一倒阶梯与第二倒阶梯,该第一倒阶梯具有第一 下表面,该第二倒阶梯具有第二下表面,且所述的第二下表面低于所述的第 一下表面,其中该第二下表面与该第二上表面呈错位安置。

13.如权利要求10所述的阶梯式电容结构,其中该第二下表面的高度低 于该第二上表面的高度。

14.如权利要求10所述的阶梯式电容结构,其中该倒阶梯状还包含第三 倒阶梯,且具有第三下表面,位于该第一倒阶梯的下表面,且与该第二倒阶 梯相邻,该第三下表面低于该第二下表面。

15.如权利要求10所述的阶梯式电容结构,其中该倒阶梯状还包含第三 倒阶梯,位于该第二倒阶梯的第二下表面。

16.如权利要求14或15所述的阶梯式电容结构,其中该第三倒阶梯与该 第二倒阶梯以距离间隔相邻。

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