[发明专利]红外目标温度校正系统和方法有效

专利信息
申请号: 200810134154.4 申请日: 2008-07-23
公开(公告)号: CN101435721A 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: F·E·利布曼 申请(专利权)人: 弗卢克公司
主分类号: G01J5/00 分类号: G01J5/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈松涛;王 英
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 红外 目标 温度 校正 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于校准红外温度计的方法,包括:

获取红外目标的多个第一辐射亮度测量值,其中,在将红外目标加热到多个目标设定温度之一的情况下获取所述多个第一辐射亮度测量值中的每一个;

对于每一个第一辐射亮度测量值,计算辐射亮度等于所述第一辐射亮度测量值并且发射率基本上等于第一红外温度计的发射率设置的灰体的表观温度;

将每一个所述表观温度映射到所述目标设定温度中对应于相同辐射亮度测量值的一个目标设定温度;

将校准温度输入到耦合到所述红外目标的控制器中;

将所述红外目标加热到一个设定温度,该设定温度是所述多个设定温度中被映射到所述表观温度中对应于所述校准温度的一个表观温度的一个设定温度;

利用所述第一红外温度计来获取对所述红外目标的第二辐射亮度测量值;以及

对所述第一红外温度计进行校准,以便将所述第二辐射亮度测量值映射到所述校准温度。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,获取所述红外目标的所述多个第一辐射亮度测量值包括:利用根据模拟黑体所校准的第二红外温度计来获取所述红外目标的多个第一辐射亮度测量值。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述第一和第二红外温度计具有基本上相同的频率响应带。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述目标具有高发射率涂层。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述发射率设置小于1。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述发射率设置处于0.9和1之间。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述发射率设置处于0.9和0.95之间。

8.根据权利要求1所述的方法,还包括采用第一红外温度计来测量对象的辐射亮度,并输出对应于对所述第一红外温度计进行校准的步骤的温度。

9.根据权利要求1所述的方法,还包括对于所述多个设定温度中的每一个导出多个接触温度,所述多个接触温度中的每一个对应于在所述目标的表面处于所述设定温度时与所述目标热接触的传感器的输出,其中,将所述目标加热到所述多个设定温度之一的步骤包括对所述目标进行加热,从而使所述温度传感器产生对应于与所述多个设定温度之一相对应的接触温度的输出。

10.一种校准系统,包括:

具有发射率设置的红外温度计;

朝向所述红外温度计发射红外辐射的目标;

与所述目标热接触的加热元件;

与所述目标热接触的温度传感器;以及

耦合到所述温度传感器和加热元件的控制器,所述控制器被配置为接收输入温度,所述控制器被配置为将所述输入温度映射到设定温度,并且使所述加热元件将所述目标加热到近似于所述设定温度,所述设定温度对应于所述目标的等于所述输入温度的表观温度,所述表观温度基本上等于灰体的灰体温度,该灰体的发射率基本上等于所述红外温度计的所述发射率设置并且其辐射亮度基本上等于被加热到所述设定温度时的所述目标的辐射亮度。

11.根据权利要求10所述的校准系统,其中,所述目标具有高发射率涂层。

12.根据权利要求10所述的校准系统,其中,所述发射率设置小于1。

13.根据权利要求12所述的校准系统,其中,所述发射率设置处于0.9和1之间。

14.根据权利要求13所述的校准系统,其中,所述发射率处于0.9和0.95之间。

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