[发明专利]喷嘴清洗装置及清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及喷嘴清洗装置及清洗方法，尤其涉及为了防止喷出清洗液的狭缝喷嘴的唇口(lip)部位被堵塞或污染而对其进行清洗的喷嘴清洗装置及清洗方法。

背景技术

通常，在半导体装置或平板显示器(FPD：flat panel display)的制造工艺中为了使在被处理基板(硅晶片或玻璃基板)上执行特定功能的薄膜，例如氧化薄膜、金属薄膜、半导体薄膜等以所期望的形状图案化(patterning)而执行对所述薄膜涂布与光源发生反应的感光液(sensitive material)的工艺。

如此，为了在被处理基板的薄膜上形成预定的电路图案，涂布感光液而形成感光膜，并对应电路图案曝光所述感光膜，对曝光部位或未曝光部位进行显影处理而加以清除的一系列过程称为影印工程(Photolithographyprocesses)或光刻(photolithography)工程。

在影印工程中，只有使感光膜具有预定的均匀厚度，在制造过程中才不会发生不良现象。例如，当感光膜比基准值厚时，薄膜中所需的部位有可能不被蚀刻；当感光膜比基准值薄时，薄膜被蚀刻得有可能多于比所希望的蚀刻量。如此，如果想要在被处理基板上形成均匀厚度的感光膜，首先要在被处理基板上以均匀的厚度涂布感光液。

当被处理基板为玻璃基板时，主要使用如下方法：在平板(surface plate)上支撑基板的状态下，使形成朝横跨基板的方向喷出感光液的狭缝(slit)的狭缝喷嘴在基板上朝与形成所述狭缝的方向垂直相交的方向移动，同时通过所述狭缝向基板表面涂布感光液的非旋转涂布(spinless coating)法或狭缝涂布(slit coating)法。

图1是简要示出利用非旋转涂布法的现有的狭缝式涂布机的立体图。

如图1所示，现有的用于涂布感光液的装置，即狭缝式涂布机包含：平板1，以用于装载并支撑将要进行感光液处理的基板S；狭缝喷嘴2，以用于对装载于所述平板1上的基板S涂布感光液；设在平板1的一侧的待机部11，以用于使所述狭缝喷嘴2待机。狭缝喷嘴2具有对应基板S宽度W的长度的狭缝状喷口，并且当对基板S涂布感光液时，从待机部11前移至基板S侧，并通过狭缝21向基板S表面喷出感光液，当完成感光液涂布作业时，复位到待机部11侧而处于待机模式。

通过如上所述的狭缝喷嘴2涂布感光液之后，在喷口周围会残留一部分有机绝缘物质或感光液，如果以此状态在外部暴露一定时间，则残留的感光液就会被硬化，从而存在对之后的涂布作业带来不良影响的隐患。为了消除这种隐患，需要对所述狭缝喷嘴2的唇口(lip)部位进行周期性的清洗，而清洗作业通常在涂布作业和下一次涂布作业之间的待机时间段进行。因此所述平板1的待机部11设有清洗所述狭缝喷嘴2的喷嘴清洗装置3。

图2是图1的感光液涂布装置所具备的喷嘴清洗装置的剖视图。

如图2所示，所述喷嘴清洗装置3具有沿着狭缝喷嘴2的狭缝长度方向移动的主体30。所述主体30具有：第一狭缝32，以用于对狭缝喷嘴2的唇口部位喷射清洗液；第二狭缝33，以用于从所述第一狭缝32的上侧向狭缝喷嘴2的唇口部位喷射干燥空气(CDA：Clean DryAir)。

所述主体30上具有胶块(Rubber block)31，该胶块31与狭缝喷嘴2的唇口部位接触并移动而去除异物，并且所述胶块31其一面呈V形槽，通过压缩弹簧34弹性支撑于主体30上而紧密地与狭缝喷嘴2的唇口部位接触。如此，胶块31紧密地接触于狭缝喷嘴2的唇口部位的状态下，横跨狭缝喷嘴2的唇口部位并以100～300mm/s的速度移动的同时对所述唇口部位进行清洗。

但是，上述现有的喷嘴清洗装置，为了防止涂布完感光液之后残留在喷口周围的药液被硬化，只是在狭缝式涂布机运行的时间段内周期性地进行清洗，不能从根本上解决结束作业后处于待机模式的狭缝喷嘴露在外部的问题。因此，如果待机时间长，显然狭缝喷嘴的喷口露在外部的时间也变长，从而其喷口周围的药液被硬化而此后进行涂布作业时不可能进行良好的涂布。

并且，如果是大面积的基板，狭缝喷嘴的大小应与基板对应，但狭缝喷嘴的大小多大，具体来讲，如果整体宽度变长，则用于清洗唇口部位的胶块的移动时间只能变得更长，从而导致清洗所需的整体作业时间变长。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种具有对向基板上喷出药液的狭缝喷嘴进行清洗的功能，并且在长期不使用狭缝喷嘴时可以防止狭缝喷嘴的喷口露在外部，而且同时可以对整个唇口部位进行清洗进而缩短清洗所需的时间的喷嘴清洗装置及清洗方法。