[发明专利]研磨垫及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810129624.8 申请日: 2008-08-01
公开(公告)号: CN101637888A 公开(公告)日: 2010-02-03
发明(设计)人: 王裕标 申请(专利权)人: 智胜科技股份有限公司
主分类号: B24D13/14 分类号: B24D13/14;B24D18/00;B24B37/04;B24B29/00;H01L21/304
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈 亮
地址: 台湾省台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 研磨 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种研磨垫,包括:

一研磨层;

多个弧状沟槽,配置在该研磨层中,该些弧状沟槽形成多个扇形排列区域, 该些弧状沟槽各具有两端点,其中至少一端点的沟槽底斜面与该研磨层表面的 一夹角小于90度角;以及

一中介区域,其介于相邻二个扇形排列区域。

2.如权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,对应于该研磨垫相对运动方 向,该些弧状沟槽各具有一前端点及一后端点,且至少该后端点的沟槽底斜面 与该研磨层表面的一夹角小于90度角。

3.如权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,该夹角为介于5至60度角。

4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的研磨垫,其特征在于,该些弧 状沟槽的形状为选自圆弧形、椭圆弧形、拋物弧形、不规则弧形及其组合所组 成的群组。

5.如权利要求1至3中任一权利要求所述的研磨垫,其特征在于,该些弧 状沟槽的形状为圆弧形,且具有小于180度的圆心角。

6.如权利要求1至3中任一权利要求所述的研磨垫,其特征在于,该些弧 状沟槽包括具有不同半径的同心圆弧沟槽及具有相同半径的同心圆弧沟槽。

7.如权利要求6所述的研磨垫,其特征在于,该相同半径的同心圆弧沟槽 总长度占投射圆周长度的55%至95%。

8.如权利要求6所述的研磨垫,其特征在于,该相同半径的同心圆弧沟槽 总长度占投射圆周长度的15%至45%。

9.如权利要求6所述的研磨垫,其特征在于,该些同心圆弧沟槽位于偶数 圈位置内的沟槽与位于奇数圈位置内的沟槽交错设置。

10.如权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,该中介区域内更包括至少 一径向延伸沟槽。

11.如权利要求10所述的研磨垫,其特征在于,该径向延伸沟槽的形状为 选自直线形、折线形、弧形及其组合所组成的群组。

12.如权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,位于同一扇形排列区域内 的弧状沟槽为具有不同半径的同心圆弧沟槽。

13.如权利要求12所述的研磨垫,其特征在于,一扇形排列区域内的同心 圆弧沟槽的半径与相邻另一扇形排列区域内的同心圆弧沟槽的半径不相等。

14.如权利要求12所述的研磨垫,其特征在于,一扇形排列区域内的同心 圆弧沟槽的半径与相邻另一扇形排列区域内的同心圆弧沟槽的半径不相等,但 与间隔另一扇形排列区域内的同心圆弧沟槽的半径相等。

15.如权利要求12所述的研磨垫,其特征在于,一扇形排列区域内的同心 圆弧沟槽的圆心与另一扇形排列区域内的同心圆弧沟槽的圆心不相重叠。

16.如权利要求12所述的研磨垫,其特征在于,至少一扇形排列区域内的 同心圆弧沟槽的圆心与该研磨垫的旋转轴心不相重叠。

17.一种研磨垫,包括:

一研磨层;

多个弧状沟槽,配置在该研磨层中,环绕该研磨垫的旋转轴心;以及

一研磨面,配置在该些弧状沟槽间,其包括一第一研磨区域以及一第二研 磨区域,该第一研磨区域位于圆周方向的任二弧状沟槽之间,该第二研磨区域 位于径向的任二弧状沟槽之间,其中该第一研磨区域随该研磨面磨耗向下逐渐 变大。

18.如权利要求17所述的研磨垫,其特征在于,对应于该研磨垫相对运动 方向,该些弧状沟槽各具有一前端点及一后端点,且至少该后端点的沟槽底斜 面与该研磨层表面的一夹角小于90度角。

19.如权利要求18所述的研磨垫,其特征在于,该夹角为介于5至60度 角。

20.如权利要求17至19中任一权利要求所述的研磨垫,其特征在于,该 些弧状沟槽的形状为选自圆弧形、椭圆弧形、拋物弧形、不规则弧形及其组合 所组成的群组。

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