[发明专利]电光学装置、及其驱动方法和电子设备有效

专利信息
申请号: 200810127552.3 申请日: 2008-06-27
公开(公告)号: CN101334979A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 保坂宏行 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G09G3/36 分类号: G09G3/36
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 装置 及其 驱动 方法 电子设备
【说明书】:

技术领域

本发明涉及把1个场分割为多个子场,且通过在各子场中使各像素 ON、OFF来表现灰度的技术。

背景技术

在像素中使用了液晶元件作为显示元件的电光学装置中进行灰度 显示时,提出以下技术来代替电压调制方式。即提出把1个场分割为多 个子场,在各子场,使像素(液晶元件)ON或OFF,通过在1个场中改 变使像素ON或OFF的时间比例,来进行灰度显示的技术(参照专利 文献1)。

在所述的技术中,在所使用的液晶元件的响应速度比较慢的情况, 具体而言,利用只在1个子场使液晶元件透光,反射率(或者透射率) 不立刻达到相当于透光的数值(不饱和)这一点,精细地控制液晶元件 的透射率或反射率。

专利文献1:特开2003-114661号公报

可是,一般伴随着温度升高,液晶的响应速度加快。因此,考虑到 如果温度高时液晶的响应速度被提高的状态,导致透光时的反射率未立 刻达到相当于透光的数值这样的前提崩溃,所以存在无法表现适当的灰 度的问题。

在较大范围的像素表现同一灰度时,使这些像素同样的ONOFF, 存在容易观察到闪烁的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述的事情而提出的,其目的之一在于,提供一种即 使由于温度等引起响应速度变化,也能进行确切的灰度表现,使闪烁不 明显的电光学装置、及其驱动方法和电子设备。

上述问题起因于像素ON或OFF的子场不连续的情况。因此,在本 发明的电光学装置的驱动方法中,该电光学装置具有多个与多条扫描线 和多条数据线的交叉点对应的像素,按照把1个场分割为多个所得到的 各个子场对所述像素至少施加ON或OFF电压,进行灰度显示,其特 征在于:把所述1个场分割为p(p为2以上的整数)个组,且把分割 后的组再分割为2个子场;把所述p个组设定为彼此相等的期间长度; 把构成1个场的子场的期间长度设定为分别不同的长度;在1个或在相 邻的场进行观察时使被施加ON和OFF电压的子场连续,并且对所述 像素按照被指定的灰度等级,设定整个1个场中施加ON电压的子场的 合计期间长度;把所述多条扫描线至少划分为第一和第二群,并且使与 所述第一群的扫描线对应的像素和与所述第二群的扫描线对应的像素 的场的开始时刻至少相差所述组的期间长度以上。根据本发明,解决了 在ON和OFF的子场变为不连续时,像素不能达到目标亮度的问题, 并且表现相同的灰度时,在与第一和第二群的扫描线对应的像素彼此间 使场开始时刻不同,所以闪烁不明显。

在本发明中,设第一群的扫描线为奇数行的扫描线,第二群的扫描 线为偶数行的扫描线;优选将奇数行的扫描线和与其相邻的偶数行的扫 描线的场开始时刻在相位上相差180度。

此外,在本发明中,交替选择所述奇数行的扫描线和所述偶数行的 扫描线,并且使一行的扫描线的被选择的间隔设为与子场对应的期间长 度。

在本发明中,优选所述像素包含液晶元件;设定所述子场中最短的 子场的期间长度,以使其短于所述液晶元件被施加所述ON电压时该液 晶元件的反射率或透射率达到饱和为止的饱和响应时间。根据这样的设 定,由于最短的子场的期间长度短于液晶元件的饱和响应时间,所以能 不依赖于液晶元件的饱和响应时间,增加可表现的灰度数量。

此外,在本发明中,在1个或相邻的场进行观察时,使施加ON和 OFF电压的子场连续的灰度等级,为所述像素中能表现的灰度数量中半 数以上;指定像素的灰度等级的显示数据变换为用于指定施加按各子场 设定的ON或OFF电压的数据,根据该变换的数据,对所述像素施加 ON或OFF电压。这里,关于所述变换,可以使用变换表。

再者,在本发明中,在所述子场中除了ON或OFF电压之外,也 可以施加中间电压。这样除了ON、OFF的2种电压之外,再加上中间 电压,可以不变更子场的排列,就能增加能表现的灰度数目。这时,作 为中间电压,可以为2以上的多个(稍微明亮、稍暗)。

本发明不仅是电光学装置的驱动方法,也能作为电光学装置自身、具 有该电光学装置的电子设备。

附图说明

图1是表示本发明第1实施方式的电光学装置的整体结构的图。

图2是表示该电光学装置的像素的结构的图。

图3是表示该电光学装置的子场的结构的图。

图4是表示该电光学装置的灰度显示的图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810127552.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top