[发明专利]光学玻璃的制造方法无效
| 申请号: | 200810093733.9 | 申请日: | 2008-04-16 |
| 公开(公告)号: | CN101289269A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
| 发明(设计)人: | 妹尾龙也;永冈敦 | 申请(专利权)人: | 株式会社小原 |
| 主分类号: | C03B5/43 | 分类号: | C03B5/43;C03B11/00 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学玻璃 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及大量含有Bi2O3成分和/或TeO2成分的光学玻璃的制造方法。本发明特别涉及使用规定的部件制造前述光学玻璃的方法,该光学玻璃大量含有Bi2O3成分和/或TeO2成分,折射率高,玻璃化转变点低。
背景技术
目前,高折射率、高色散范围的光学玻璃代表性的是大量含有氧化铅的组成体系,由于这些玻璃的稳定性好并且玻璃化转变点(Tg)低,因此可用在精密压制成型中。例如,专利文献1中公开了大量含有氧化铅的精密压制用的光学玻璃。但是在实施精密压制成型的情况下,为了防止模具的氧化,多在还原性气氛下进行压制,玻璃成分中含有氧化铅时,则存在如下的问题:被还原的铅从玻璃表面析出并附着在模具表面,不能维持模具的精密面。另外,氧化铅对环境有害,环境方面经常期待无铅化。
作为不以铅为主要成分并且可使用于精密压制成型的具有低温软化特性的玻璃,已知大量含有Bi2O3、TeO2的玻璃。例如,专利文献2中记载一种对0.8μm的光线的折射率为1.9以上、适合于精密压制成型的低温软化性光学玻璃。专利文献3中记载了如下的光学玻璃:以Bi2O3为主要成分,在可见区域的透明性高,具有折射率(nd)为1.85以上以及阿贝数(νd)在10~30的范围的光学常数的光学玻璃。专利文献4中记载了如下的光学玻璃:以Bi2O3为主要成分,在可见区域的透明性高,具有折射率(nd)为1.75以上以及阿贝数(νd)在15~40的范围的光学常数的光学玻璃。
在制造玻璃化转变点低的光学玻璃的情况下,通常采用通过在铂或铂合金、强化铂等耐热容器内将原料熔融从而玻璃化的方法。
但是,大量含有Bi2O3、TeO2的光学玻璃通常由于各种各样的原因而存在可见光线透过性容易变差的缺点,作为光学玻璃使用时的困难多。特别是将上述玻璃熔融时和成型时,通常被用作熔融槽和流路材料的铂族合金与熔融玻璃之间发生反应,玻璃多被着色。这些着色在光学玻璃用途中非常不利。另外,这些熔融玻璃与铂族合金的反应不仅是着色性恶化导致的不利,而且由于该反应促进熔融部件的劣化,因此存在玻璃漏出等危险性而成为阻碍稳定生产的重要原因。
为了解除上述不利,还对熔融Bi2O3等玻璃时的部件进行了各种研究。
专利文献5中记载了在容纳熔融玻璃的坩锅中使用含钯合金。专利文献6中记载了在制造大量含有Bi2O3的低融点玻璃时,在由Au或Au合金制成的耐热容器内进行原料配合料的熔融玻璃化。
但是,在专利文献5中记载的坩锅内将大量含有Bi2O3、TeO2的玻璃熔融的情况下,着色抑制效果并不充分,为了用作光学玻璃的熔融部件,需要进一步改良。另外,专利文献6中记载的坩锅对玻璃的着色抑制效果显著,在实验室水平的小规模生产中非常有效。但是,由于加热时的强度不充分,因此在施加大量的温度、压力等负荷的大量生产时不合适。
专利文献1:日本特开平1-308843号公报
专利文献2:日本特开2002-201039号公报
专利文献3:日本特开2006-327925号公报
专利文献4:日本特开2006-327926号公报
专利文献5:日本特开2004-59362号公报
专利文献6:日本特开2004-18312号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是鉴于上述情况而进行的,涉及如下的光学玻璃的制造方法:可以抑制将大量含有Bi2O3、TeO2的光学玻璃熔融和/或成型时的着色,并且使用对大量生产时的各种负荷有耐性的高强度金属材料制成的部件。
用于解决问题的方法
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