[发明专利]光学元件、靠模标准原器、树脂靠模、树脂模制品及模具无效
| 申请号： | 200810092611.8 | 申请日： | 2008-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN101290359A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 染矢和昭;前纳良昭 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社;三洋光学设计株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;B29C33/40;B29D11/00;B29K105/32 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 标准 树脂 制品 模具 | ||
1、一种光学元件，
在对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，
在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。
2、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，
在所述识别图案区域不存在所述微细起伏构造。
3、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，
所述识别图案区域中的所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同。
4、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，
在所述识别图案区域中混合存在着：所述微细起伏构造不存在的区域和所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同的区域。
5、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，
所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为所述对象光的波段以下。
6、根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，
所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为100μm以下。
7、一种靠模标准原器，用于生成光学元件，
具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，
对于所述微细起伏构造，
在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，
在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。
8、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，
在所述识别图案区域不存在所述微细起伏构造。
9、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，
所述识别图案区域中的所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同。
10、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，
在所述识别图案区域中混合存在着：所述微细起伏构造不存在的区域和所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同的区域。
11、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，
所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为所述对象光的波段以下。
12、根据权利要求7所述的靠模标准原器，其特征在于，
所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为100μm以下。
13、一种树脂靠模，用于生成光学元件，
具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，
对于所述微细起伏构造，
在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，
在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。
14、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，
在所述识别图案区域不存在所述微细起伏构造。
15、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，
所述识别图案区域中的所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同。
16、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，
在所述识别图案区域中混合存在着：所述微细起伏构造不存在的区域和所述微细起伏构造的高度与其他区域相比不同的区域。
17、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，
所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为所述对象光的波段以下。
18、根据权利要求13所述的树脂靠模，其特征在于，
所述间距方向上的所述识别图案区域的宽度为100μm以下。
19、一种树脂模制品，用于生成光学元件，
具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，
对于所述微细起伏构造，
在所述光学元件中对象光所透过的面内具备以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，
在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。
20、一种模具，用于生成光学元件，
具备用于复制形成微细起伏构造的复制图案，
对于所述微细起伏构造，
在所述光学元件中对象光所透过的面内具有以比所述对象光的波段小的间距形成的微细起伏构造，
在所述微细起伏构造的形成区域的一部分上，具有所述微细起伏构造的形成状态与其他区域相比不同的识别图案区域。
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