[发明专利]磁头无效
| 申请号: | 200810086062.3 | 申请日: | 2008-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN101266799A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
| 发明(设计)人: | 山田浩之;永井浩史 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/31 | 分类号: | G11B5/31;G11B5/39;G11B5/127 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉;孙海龙 |
| 地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁头 | ||
1、一种用于在记录介质上记录信息的磁头,该用于在记录介质上记录信息的磁头包括:
磁极层,该磁极层具有要面对所述记录介质的端面;
辅助磁极层,该辅助磁极层磁性地连接至所述磁极;以及
屏蔽层,该屏蔽层用于保护所述磁极层不受外部磁场影响,所述屏蔽层具有要面对所述记录介质的第一表面、要面对所述记录介质的与所述第一表面相邻的第二表面、以及与所述第二表面相邻的第三表面,所述第一表面和所述第二表面形成锐外角,所述第一表面和所述第三表面形成钝外角。
2、根据权利要求1所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,其中,所述第二表面和所述第三表面形成锐内角。
3、根据权利要求1所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,其中,所述第一表面和所述第二表面形成3度到15度的外角,而所述第一表面和所述第二表面形成105度到135度的外角。
4、根据权利要求1所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,其中,所述第二表面和所述第三表面的交点到所述第一表面的距离等于0.8微米或更大。
5、一种用于再现记录在记录介质上的信息的磁头,所述用于再现记录在记录介质上的信息的磁头包括:
用于再现信息的磁阻组件;和
屏蔽层,该屏蔽层用于保护所述磁阻组件不受外部磁场影响,所述屏蔽层具有要面对所述记录介质的第一表面、要面对所述记录介质的与所述第一表面相邻的第二表面,以及与所述第二表面相邻的第三表面,所述第一表面和所述第二表面形成锐外角,所述第一表面和所述第三表面形成钝外角。
6、根据权利要求5所述的用于再现记录在记录介质上的信息的磁头,其中,所述第二表面和所述第三表面形成锐内角。
7、根据权利要求5所述的用于再现记录在记录介质上的信息的磁头,其中,所述第一表面和所述第二表面形成3度到15度的外角,而所述第一表面和所述第二表面形成105度到135度的外角。
8、根据权利要求5所述的用于再现记录在记录介质上的信息的磁头,其中,所述第二表面和所述第三表面的交点到所述第一表面的距离等于0.8微米或更大。
9、根据权利要求5所述的用于再现记录在记录介质上的信息的磁头,所述用于再现记录在记录介质上的信息的磁头还包括:
辅助屏蔽层,该辅助屏蔽层以所述记录介质为基准比所述屏蔽层位置更高,所述辅助屏蔽层与所述屏蔽层分开。
10、根据权利要求1所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,所述用于在记录介质上记录信息的磁头还包括:
磁阻组件,该磁阻组件用于再现记录在所述记录介质上的信息,和
屏蔽层,该屏蔽层用于保护所述磁阻组件不受外部磁场影响,所述屏蔽层具有要面对所述记录介质的第一表面、要面对所述记录介质的与所述第一表面相邻的第二表面、以及与所述第二表面相邻的第三表面,所述第一表面和所述第二表面形成锐外角,所述第一表面和所述第三表面形成钝外角。
11、一种用于在记录介质上记录信息的磁头,所述用于在记录介质上记录信息的磁头包括:
磁极层,该磁极层具有要面对所述记录介质的端面;
辅助磁极层,该辅助磁极层磁性地连接至所述磁极,所述辅助磁极层具有要面对所述记录介质的第一表面、要面对所述记录介质的与所述第一表面相邻的第二表面、以及与所述第二表面相邻的第三表面,所述第一表面和所述第二表面形成锐外角,所述第一表面和所述第三表面形成钝外角。
12、根据权利要求11所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,其中,所述第一表面和所述第二表面形成锐内角。
13、根据权利要求11所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,其中,所述第一表面和所述第二表面形成3度到15度的外角,并且所述第一表面和所述第三表面形成105度到135度的外角。
14、根据权利要求11所述的用于在记录介质上记录信息的磁头,其中,所述第二表面和所述第三表面的交点到所述第一表面的距离等于0.8微米或更大。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社,未经富士通株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810086062.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基板处理装置及基板处理方法
- 下一篇:基于虚拟操作的通用飞行模拟器





