[发明专利]一种高强度耐摩擦的激光全息膜无效
| 申请号: | 200810067543.X | 申请日: | 2008-06-03 |
| 公开(公告)号: | CN101464526A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
| 发明(设计)人: | 蒋树青;刘勇 | 申请(专利权)人: | 深圳九星印刷包装集团有限公司;蒋树青;刘勇 |
| 主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;B32B33/00;B42D15/00 |
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| 地址: | 518035广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 强度 摩擦 激光 全息 | ||
技术领域
本发明涉及激光全息膜的技术领域、尤其是高强度耐摩擦的激光全息膜的技术领域。
背景技术
由于激光全息膜拥有独特的装饰、保护、防伪等等技术特性,目前已经广泛应用于各个领域,而且具有更加广泛和深入应用的发展趋势,对其质量属性将会有更高的要求,尤其是激光全息膜的表面质量。
在激光全息膜的制造过程中,为了得到清晰、明亮的全息图像,在热塑性薄膜材料的表面全息图像上需要蒸镀一层保护材料以提高反射性,目前广泛使用的保护材料是二氧化硅、硫化锌等等,镀膜的方法采用的是真空蒸镀。由于二氧化硅、硫化锌等材料在空气中容易氧化导致成品激光全息膜表面发灰、发黄,严重影响激光全息膜的质量性能,这是其一;其二,由于二氧化硅、硫化锌等材料本身密度小、强度底、易分解,所以导致激光全息膜的表面不耐摩擦、碰撞等等,难以起到完全的保护作用;第三,由于采用的真空蒸镀的方法,保护镀膜的均匀度和保护膜层的厚度难以控制,增加了生产难度。
发明内容
本发明的目的是针对上述目前激光全息膜保护镀膜材料和镀膜方法存在的技术缺陷,公开一种高强度耐摩擦的激光全息膜的技术方案。
本发明的技术方案是,一种高强度耐摩擦的激光全息膜,包括一基层薄膜、一激光全息图文层、一保护层以及其他辅助功能层。
在上述高强度耐摩擦的激光全息膜中,所述基层薄膜,可以是公知的热塑性薄膜材料,位于所述其他辅助功能层的上面激光全息图文层的下面;
所述激光全息图文层,可以是公知的工艺和设备制作的激光全息图文,位所述基层薄膜的上面所述保护层的下面;
所述保护层,是以公知的磁控溅射镀膜方法镀制的金属锰膜或/坡莫合金膜或/类金刚石膜等,位所述激光全息图文层的上面;
所述其他辅助功能层,至少一层所述辅助功能层,可以是公知的工艺和设备制作的粘贴或/转贴辅助功能层,可以位于所述基层薄膜的下面,也可以位于所述保护层的上面,也可以同时位于所述基层薄膜的下面和所述保护层的上面。
本发明的有益效果是,激光全息膜保护层采用金属锰或/坡莫合金或/类金刚石等高强度、不容易氧化的保护材料,极大的提高了激光全息膜成品的表面强度、耐摩擦性,克服了氧化变色的缺陷,同时,采用磁控溅射镀膜方法,生产工艺和产品质量性能可以按照设计完全控制,不但成膜质量好,而且可以实现智能化连续生产,充分提高劳动和设备的生产效率。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
在图1中,1是保护层;2是激光全息图文层;3是是基层薄膜;4是其他辅助功能层。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
如图1所示,一种高强度耐摩擦的激光全息膜,包括一基层薄膜(3)、一激光全息图文层(2)、一保护层(1)以及其他辅助功能层(4)。
在上述高强度耐摩擦的激光全息膜中,所述基层薄膜(3),可以是公知的热塑性薄膜材料,位于所述其他辅助功能层(4)的上面激光全息图文层(2)的下面;
所述激光全息图文层(2),可以是公知的工艺和设备制作的激光全息图文,位所述基层薄膜(3)的上面所述保护层(1)的下面;
所述保护层(1),是以公知的磁控溅射镀膜方法镀制的金属锰膜或/坡莫合金膜或/类金刚石膜等,位所述激光全息图文层(2)的上面;
所述其他辅助功能层(4),至少一层所述辅助功能层,可以是公知的工艺和设备制作的粘贴或/转贴辅助功能层,可以位于所述基层薄膜(3)的下面,也可以位于所述保护层(1)的上面,也可以同时位于所述基层薄膜(3)的下面和所述保护层(1)的上面。
以上所述最佳实施例,意在进一步说明本发明的技术原理,任何以简单的复制和推绎应用,均是对本发明的实施。
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