[发明专利]裸晶测试机台用缓冲分类装置及该机台有效
| 申请号: | 200810043281.3 | 申请日: | 2008-04-23 |
| 公开(公告)号: | CN101567327A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
| 发明(设计)人: | 林汉声 | 申请(专利权)人: | 中茂电子(深圳)有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26;G01R31/28 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
| 地址: | 518054广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测试 机台 缓冲 分类 装置 | ||
1.一种裸晶测试机台用缓冲分类装置,供该机台测试的多个裸晶被置放于多个测试承载盘中,且每一测试承载盘中均形成有多个分别用以承载该等裸晶的承载槽,其特征是,受该机台处理装置驱动的缓冲分类装置包括:
用于置放上述测试承载盘的缓冲区;
多个用于分类置放该等受测裸晶、且分别形成有多个收纳该等裸晶的容置槽的出料承载盘;
将该等位于缓冲区中的测试承载盘内的受测裸晶依照该处理装置驱动讯号分别移入对应出料承载盘中的搬移器。
2.根据权利要求1所述的裸晶测试机台用缓冲分类装置,其特征是,缓冲区位于机台的基座上。
3.根据权利要求1所述的裸晶测试机台用缓冲分类装置,其特征是,搬移器为设置有吸嘴的机械臂。
4.根据权利要求3所述的裸晶测试机台用缓冲分类装置,其特征是,该吸嘴具有大于一个预定截面的吸附部,藉此将吸力分散至被吸取的该裸晶的一个预定面积。
5.一种裸晶测试机台,供该机台测试的多个裸晶被置放于多个测试承载盘中,且每一测试承载盘中均形成有多个分别用以承载该等裸晶的承载槽,其特征是,该机台包含:基座、输送该等承载盘的输送装置、对应该输送装置的检测装置、接受该检测装置讯号而判定该等受测裸晶性能的处理装置及受该处理装置驱动的如权利要求1-4中任何一项所述的缓冲分类装置。
6.根据权利要求5所述的裸晶测试机台,其特征是,还包含用于置放多组分别容纳有多个该等受测裸晶的测试承载盘的入料装置。
7.根据权利要求6所述的裸晶测试机台,其特征是,该输送装置包括将该等测试承载盘由该入料装置移至对应该检测装置的入料运送器及将该等测试承载盘由对应该检测装置移至该缓冲区的出料运送器。
8.根据权利要求5所述的裸晶测试机台,其特征是,该检测装置包括多个分别输出讯号至该处理装置的检测端口。
9.根据权利要求8所述的裸晶测试机台,其特征是,该检测装置还包括多个分别对应该等检测端口,供同步检测该测试承载盘中所有该等受测裸晶的探针卡,及
多个分别对应该等探针卡位置,供举升该等测试承载盘的举升臂。
10.根据权利要求5-9中任何一项所述的裸晶测试机台,其特征是,还包含对应该输送装置和/或该检测装置,并将该等测试承载盘中的该等裸晶位置数据输出至该处理装置的影像撷取装置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





