[发明专利]清洗系统上的喷射装置无效
| 申请号: | 200810038388.9 | 申请日: | 2008-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN101590474A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
| 发明(设计)人: | 陈肖科 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
| 地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洗 系统 喷射 装置 | ||
1.一种清洗系统上的喷射装置,所述喷射装置包括第一喷射管和第二喷射管,所述第一、第二喷射管上分别设有数个喷嘴,以分别在晶圆的正面和背面喷射清洗液,其特征在于,所述喷射装置还包括第三喷射管,所述第三喷射管设有对晶圆边缘喷射清洗液的喷嘴。
2.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,第三喷射管上喷嘴的开口方向与第一喷射管和第二喷射管上喷嘴的开口方向垂直。
3.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述喷射装置包括分别对所述第一喷射管、第二喷射管和第三喷射管提供清洗液的第一液体管、第二液体管和第三液体管;其中第三液体管连接至第二液体管上。
4.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述喷射装置包括分别对所述第一喷射管、第二喷射管和第三喷射管提供清洗液的第一液体管、第二液体管和第三液体管;其中第三液体管输送的清洗液是可以与晶圆表面残留物发生化学反应的化学液,第一液体管、第二液体管输送的清洗液是去离子水。
5.如权利要求3或者4所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述第三喷射管设有控制清洗液流量的调节阀。
6.如权利要求5所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述调节阀是空气阀。
7.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述第三喷射管由可调节喷嘴角度的软管制成。
8.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,第一喷射管和第二喷射管上分别设有三个喷嘴,第三喷射管上设有一个喷嘴。
9.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述第三喷射管的喷嘴开口对准晶圆的正面边缘。
10.如权利要求1所述的清洗系统上的喷射装置,其特征在于,所述第三喷射管的喷嘴采用的是氟素树脂管。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810038388.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:待涂覆零件的表面预处理方法
- 下一篇:用于激光雷达的扫描系统





