[发明专利]彩膜基板及其制造方法

权利要求书

1、一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：

提供一基板；

在该基板上沉积含有导电材料的挡光层，经过防反射处理后，通过光刻法形成黑矩阵；

利用光刻法在黑矩阵上依次形成色素层图案，利用光刻法刻蚀未被色素层覆盖的黑矩阵，露出黑矩阵中的导电材料；

在黑矩阵和色素层上方沉积覆盖整个基板的透明导电薄膜，该层透明导电薄膜和黑矩阵中露出的导电材料电学连接。

2、根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述导电材料为铬金属，所述防反射处理步骤为铬金属的氧化处理。

3、根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述导电材料为铝金属、所述防反射处理步骤为在铝金属层上覆盖一层有机光阻层。

4、根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述利用光刻法刻蚀未被色素层覆盖的黑矩阵时，利用色素层图案作为掩模版进行刻蚀，露出黑矩阵中的导电材料。

5、根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述色素层为R、G、B色素层。