[发明专利]高纯铝在超声搅拌下的电化学抛光方法无效
| 申请号： | 200810010180.6 | 申请日： | 2008-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101294298A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 李淑英;马迪 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C25F3/20 | 分类号： | C25F3/20 |
| 代理公司： | 大连星海专利事务所 | 代理人： | 花向阳;王树本 |
| 地址： | 116024辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高纯 超声 搅拌 电化学 抛光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高纯铝在超声搅拌条件下的电化学抛光方法；其特征在于，采用的步骤如下：
(a)、将高纯铝箔在无水乙醇中超声震荡5～10min后，用去离子水清洗；
(b)、浸在1.0～2.0mol l-1，60～80℃的氢氧化钠中30～60s去除天然氧化膜，取出后立刻浸在1.0～2.0mol l-1硝酸中15～30s进行中和，用去离子水冲洗，吹干；
(c)、将上述预处理过的铝箔做阳极，以铂片为阴极，参比电极为饱和甘汞电极，电抛光溶液是由无水乙醇和高氯酸组成的混合液；
(d)、将电解容器放入超声波清洗机，控制超声频率为45～55kHz，在恒电位仪上进行电化学抛光，电流密度为25～35mA/cm2，阳极电位为1～3V；
(e)、抛光后将铝箔在流动水中清洗，然后在去离子水中冲洗，吹干。
2.据权利要求1所述的高纯铝在超声搅拌条件下的电化学抛光方法；其特征在于：在所述的电抛光溶液中，高氯酸占总体积百分比为80～90％，无水乙醇占总体积百分比为10～20％。
3.据权利要求2所述的高纯铝在超声搅拌条件下的电化学抛光方法；其特征在于：所述的电抛光溶液工作温度为10～40℃，抛光时间为1～3min。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学，未经大连理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810010180.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
