[发明专利]用于通过油墨光刻生成图案的器件和方法

权利要求书

1.一种处理衬底表面的方法，所述方法包含以下步骤：

a)提供在外侧具有凹进部件三维图案的弹性图案化器件，其中所 述外侧具有沉积于其上的至少一个接触表面；

b)在衬底表面的至少一部分上提供图案化剂；和

c)以一方式使弹性图案化器件与衬底接触，以在弹性图案化器件 的接触表面的至少一部分和具有所述图案化剂的衬底表面之间建立共 形接触，其中所述共形接触使所述图案化剂填充所述弹性图案化器件 的所述凹进部件的至少一部分，从而处理所述衬底的所述表面。

2.权利要求1的方法，其中所述弹性图案化器件是至少部分透明 的；所述方法还包含将与所述衬底共形接触的所述弹性图案化器件曝 光于电磁辐射；其中所述弹性图案化器件的所述凹进部件中的所述图 案化剂调制被弹性图案化器件和所述凹进部件中的图案化剂透射的电 磁辐射的光学属性。

3.权利要求2的方法，其中所述光学属性选自：强度、相位、波 长、偏振状态、和它们的任意组合。

4.权利要求3的方法，其中所述弹性图案化器件的所述凹进部件 中的所述图案化剂吸收、散射或反射曝光到所述弹性图案化器件的电 磁辐射，从而生成被所述弹性图案化器件和所述凹进部件中的所述图 案化剂透射的所述电磁辐射，其中所述被透射的电磁辐射具有所述光 学属性的选定的二维空间分布。

5.权利要求3的方法，其中所述衬底包含光敏材料层，其位于与 所述接触表面共形接触的支撑材料上；并且其中被所述弹性图案化器 件和所述凹进部件中的所述图案化剂透射的电磁辐射与所述光敏材料 层相互作用。

6.权利要求5的方法，其中光敏材料包含光致抗蚀剂。

7.权利要求4的方法，其中所述被透射的电磁辐射选定的二维空 间分布是通过塑造凹进部件的所述三维图案的形状而生成的，从而生 成所述选定的二维空间分布。

8.权利要求7的方法，其中所述塑造包含改变一个或多个所述凹 进部件的位置、长度、深度或截面形状中的一个或多个。

9.权利要求8的方法，其中所述凹进部件具有非均匀深度，随深 度改变的截面形状，或二者兼有。

10.权利要求4的方法，其中所述光学属性的所述选定的二维空 间分布是通过提供液滴形式的图案化剂而生成的，其中一个或多个液   滴具有与至少一个其他液滴的成分不同的成分，从而区别调制电磁辐 射的所述光学属性。

11.权利要求4的方法，其中所述光学属性的所述二维空间分布 在一个或两个空间维度上改变。

12.权利要求11的方法，其中所述光学属性的所述二维空间分布 包含强度，其中所述强度在一个或两个空间维度上连续地改变。

13.权利要求5的方法，其中所述被透射的电磁辐射与所述光敏 材料层的所述相互作用在所述光敏层中产生了化学修改区图案，所述 方法还包含以下步骤：处理所述光敏材料，以在所述光敏层中生成三 维图案。

14.权利要求13的方法，其中化学修改区在处理步骤期间被去除。

15.权利要求13的方法，其中未化学修改区在处理步骤期间被去 除。

16.权利要求1的方法，其中所述弹性图案化器件和所述凹进部 件中的所述图案化剂包含用于在衬底表面上生成三维部件的振幅光掩 模。

17.权利要求1的方法，其中所述弹性图案化器件和所述凹进部 件中的所述图案化剂包含用于在衬底表面上生成三维图案的相移光掩 模。

18.权利要求1的方法，其中所述弹性图案化器件的所述凹进部 件包含模具，所述方法还包含以下步骤：

a)使所述弹性图案化器件的所述凹进部件中的所述图案化剂发生 物理或化学变化；和

b)使所述图案化器件与所述衬底的所述表面分离，从而生成被压 印到所述衬底的所述表面上的浮雕部件图案。