[发明专利]涂层钻及制造该涂层钻的方法

权利要求书

1.一种麻花钻，该麻花钻包括硬质合金或高速钢基体以及涂层， 其特征在于，所述涂层包括：

第一层系统，该第一层系统具有大致覆盖所述钻的整个作用部分 的多层结构，

第二层系统，该第二层系统具有仅覆盖所述钻的钻尖区域的多层 结构。

2.根据权利要求1所述的麻花钻，其特征在于，所述钻的所述钻 尖区域被限定为从钻尖向着钻的基部的距离达到所述钻的直径的0.3 至1.5倍的距离。

3.根据权利要求1或2所述的麻花钻，其特征在于，所述第一层 系统以及第二层系统包含金属氮化物，其中所述金属元素选自：钛(Ti)、 铝(Al)、硅(Si)、铬(Cr)、铌(Nb)、铪(Hf)、钒(V)、钽 (Ta)、钼(Mo)、锆(Zr)、或钨(W)以及上述元素的混合。

4.根据前述权利要求中任一项所述的麻花钻，其特征在于，所述 第一层系统和/或第二层系统包括具有非周期结构的一个或多个区段。

5.制造麻花钻的方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供硬质合金或高速钢基体；以及

通过利用传统的PVD技术将具有多层结构的第一层系统沉积到 所述钻的整个作用部分上，以及

利用传统的PVD技术将具有多层结构的第二层系统沉积到所述 钻的钻尖区域上。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在沉积所述第二层 系统之前，通过一紧密配合柱体遮蔽所述钻的以下部分，通过将所述 部分配合于所述紧密配合柱体，使得只有所述钻尖区域露出以进行沉 积。

7.根据权利要求5或6中任一项所述的方法，其特征在于，所述 钻的所述钻尖区域被限定为从钻尖开始向着钻的基部为所述钻的直径 的0.3至1.5倍的距离。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的麻花钻，其特征在于，所 述第一层系统和第二层系统利用阴极电弧蒸镀沉积，该阴极电弧蒸镀 利用金属元素的合金的电弧靶，所述金属元素选自：钛(Ti)、铝(Al)、 硅(Si)、铬(Cr)、铌(Nb)、铪(Hf)、钒(V)、钽(Ta)、钼 (Mo)、锆(Zr)、或钨(W)以及上述元素的混合。