[发明专利]用于获得三维数字图像的电耦合器件有效
| 申请号: | 200780029618.9 | 申请日: | 2007-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN101506982A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
| 发明(设计)人: | 李忠遖 | 申请(专利权)人: | 杰尚企业株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京中海智圣知识产权代理有限公司 | 代理人: | 曾永珠 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 获得 三维 数字图像 耦合 器件 | ||
技术领域
本发明总得来说涉及一种用于数字图像记录装置的电耦合器件 (Charge Coupled Device),尤其涉及一种安装于诸如数码相机、数码摄 录机或数码医学影像装置的各种数字图像记录装置的电耦合器件,它使得 可以获得非常清楚明晰的三维图像。
背景技术
人眼在水平方向分开大概65mm的距离,对于三维感觉来说,由水平 分开所引起的双目差异是至关重要的因素。即,左眼和右眼看到的是不同 的二维图像。当这两幅图像通过视网膜传输到大脑时,大脑将这两幅图像 精确地组合在一起,由此实现原始三维图像的纵深感和真实感。
目前,已经有多种方法试图通过诸如光学仪器的各种装置来实现三维 形状,一些技术已经达到商业化。例如,偏振滤光镜(polarizing filter) 方法是一种通过正交偏振装置的结合、应用遮蔽效应的左、右眼获取图像 的分离技术,其实施如下,左、右图像通过装有正交偏振装置等的视频投 影机投射到屏幕上,左、右图像使用装有正交偏振装置等的眼镜来观看。 除了偏振滤光镜方法外,还有一种分时立体再现方法,交替顺序切换左、 右图像,左、右图像间存在视差角,将左、右图像呈现给双眼,使用与左、 右图像的切换同步的快门眼镜(shutter glasses)将左、右图像以三维 图像再现。此外,还有无需特殊眼镜的免镜(glasses-free)法,例如视 差栅栏(parallax barrier)法、凸透镜状(lenticular)法、全息 (holograph)法。视差栅栏法的实施如下,相应于左、右眼的图像在被 称之为视差栅栏的窄缝状开口后交替地布置,且与视差栅栏相隔适当的距 离,这样,当左、右图像在特定时间点穿过该开口观看时,图像就可以被 准确地分开并呈现出三维图像。凸透镜状法的实施如下,左、右图像以条 状布置在半圆柱透镜的焦平面上,称之为凸镜状屏幕(lenticular screen),依靠凸透镜状安排的透镜面的方向性而被分开,由此,图像通 过凸镜状安排的透镜面观察时,图像呈现出三维图像,而无需眼镜。除了 上面提到的方法外,至今,还有多种尝试,试图获得满意的三维图像。但 是,这些传统的方法的问题在于需要特殊的装置,偏振滤光镜或透镜状安 排的透镜,或者说用于获得三维图像的装置的构建太复杂。相应地,传统 方法还具有制造该装置的成本较高的缺陷,普通消费者很难企及这些方 法。
韩国专利No.423124,名称为“Three-Dimensional Image System”, 由本申请人于2001-6-20提交至专利局,旨在更为简单和优良地获得三维 图像。该专利合并入本发明中,公开了一种光学记录装置,胶片等图像记 录媒介被放在远远越过菲涅尔区(Fresnel region)的地方,菲涅尔区是 光穿过狭缝时直线传播的区域,因此,实现清晰的三维图像,不受在缝处 的衍射而生成的余像(afterimage)的干扰。图1是使用狭缝记录三维图 像的光学装置的结构的示意图,图2是由本申请人提出的使用狭缝板的三 维图像记录装置的图像形成的原理图。不像传统的使用狭缝的装置,图像 记录在作为图像记录介质的胶片上,位于穿过狭缝的光线直线传播的菲涅 尔区域中,上述专利中,三维图像信息是记录在作为图像记录介质的胶片 203上,胶片203与狭缝板相距足够的距离,远远超过菲涅尔区域,因此 避免了由于狭缝板204的特点而引起的不需要的余像被记录。即,根据狭 缝板的透明部分和不透明部分的比率,确定狭缝板204和胶片203之间的 最优图像形成距离。在图2中,“a”表示菲涅尔区域的长度,该区域中穿 过狭缝的光直线传播,“b”表示最优图像形成距离,需要图像在超过菲涅 尔区域的位置形成。未作描述的参照符201表示图像记录装置的主体,参 照符202表示透镜。
韩国专利登记号NO.423124所公开的上述专利,是适于模拟光学仪器 的技术,如模拟照相机或摄像机,但是,当今流行的是数字图像记录装置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





