[发明专利]用于制备具有提取结构的光导的方法以及由此方法生产的光导

权利要求书

1.一种用于制备光提取结构阵列或光提取结构阵列仿型模的方 法，包括

(a)提供光反应性组合物，所述光反应性组合物包含

(1)至少一种活性物质，该活性物质能经历酸引发的或自由基 引发的化学反应，和

(2)至少一种多光子光引发剂体系；

(b)将所述组合物的至少一部分成像曝露于足以引起同时吸收至 少两个光子的光，由此在所述组合物曝光的地方诱发至少一种酸引发 的或自由基引发的化学反应，所述成像曝光是以有效限定至少光提取 结构阵列的表面的模式进行，每种所述光提取结构具有至少一种形状 因子，且所述光提取结构阵列具有均匀的或非均匀的分布，

其中通过扫描至少所需三维光提取结构的多个平面薄片的周边， 同时控制所述平面薄片的薄片厚度，使得所述光提取结构表面的粗糙 度小于所述薄片厚度来进行所述成像曝光。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法还包括通过移除所 述组合物所得的曝光部分或所得的非曝光部分来使所述组合物显影。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，在成像曝光所述组合物的 至少一部分后，所述方法还包括将所述组合物的至少一部分非成像曝 露于足以使任何残余的未反应光反应性组合物的至少一部分进行反应 的光。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述形状因子选自高度、长 度、宽度以及几何构型。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述几何构型选自圆锥体、 球体、截平的球体、截平的圆锥体以及它们的组合。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述几何构型包括基部和侧 壁，侧壁与所述基部成小于90度的竖直切向角。

7.根据权利要求1所述的方法，其中至少一个所述光提取结构的 至少一种所述形状因子不同于至少一种其它所述光提取结构的相应形 状因子。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述分布是非均匀的。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述分布是非均匀的，并且 其中至少一种所述形状因子在整个所述阵列中变化。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述形状因子为高度。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述形状因子在整个所述 阵列中规则地变化。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述光提取结构阵列的面 密度在整个所述阵列中变化和/或至少一种形状因子在整个所述阵列中 变化。

13.根据权利要求1所述的方法，其中至少大部分所述光提取结 构具有小于300微米的高度、小于500微米的长度或宽度，以及具有 小于工作波长一半的平均表面粗糙度。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述阵列具有在5％至75％ 范围内的填充因子。

15.根据权利要求1所述的方法，其中至少两个所述光提取结构 具有非平行的主轴线。

16.根据权利要求1所述的方法，其中所述活性物质是可固化物 质。

17.根据权利要求1所述的方法，其中所述活性物质是不可固化 的物质。

18.根据权利要求1所述的方法，其中所述多光子光引发剂体系 包含光化学有效量的如下物质：

(a)至少一种多光子光敏剂，该多光子光敏剂能够同时吸收至少 两个光子；

(b)任选地，至少一种电子供体化合物，该电子供体化合物不同 于所述多光子光敏剂并且能够贡献电子给所述光敏剂的电子激发态； 以及

(c)至少一种光引发剂，该光引发剂能通过从所述光敏剂的电子 激发态接受电子而被光敏化，导致形成至少一个自由基和/或酸。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法包括在基底上提 供所述光反应性组合物并定位所述组合物和所述基底之间的界面。