[发明专利]电子照相感光体的底涂层形成用涂布液和底涂层形成用涂布液的制造方法有效
| 申请号: | 200780015525.0 | 申请日: | 2007-05-18 |
| 公开(公告)号: | CN101432662A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
| 发明(设计)人: | 三森光幸;石尾耕三;渕上宏惠 | 申请(专利权)人: | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号: | G03G5/14 | 分类号: | G03G5/14;G03G5/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电子 照相 感光 涂层 形成 用涂布液 制造 方法 | ||
1.一种电子照相感光体的底涂层形成用涂布液,该涂布液为含有金 属氧化物颗粒和固化性粘结剂树脂的电子照相感光体的底涂层形成用涂 布液,其特征在于,该涂布液中的金属氧化物颗粒的以动态光散射法测 定的体积平均粒径Mv为0.1μm以下,且体积平均粒径Mv与个数平均粒 径Mp之比Mv/Mp满足下述式(1):
式(1)1.10≤Mv/Mp≤1.40。
2.权利要求1所述的电子照相感光体的底涂层形成用涂布液的制造 方法,所述电子照相感光体的底涂层形成用涂布液含有金属氧化物颗粒 和固化性粘结剂树脂,所述制造方法的特征在于,作为所述金属氧化物 颗粒,使用利用平均粒径为5μm~200μm的分散介质进行了分散的金属 氧化物颗粒。
3.如权利要求2所述的底涂层形成用涂布液的制造方法,其中,使 用湿式搅拌球磨机对所述金属氧化物颗粒进行分散处理。
4.如权利要求3所述的电子照相感光体的底涂层形成用涂布液的制 造方法,其中,所述湿式搅拌球磨机具有圆筒形的定子、设置在定子一 端的浆料供给口、设置在定子另一端的浆料排出口、用于将填充在定子 内的介质和从供给口供给的浆料搅拌混合的转子、以及连接在排出口的 分离器,所述分离器通过离心力的作用分离介质和浆料并将浆料从排出 口排出,在所述湿式搅拌球磨机中,将旋转驱动分离器的轴的轴心设定 为与上述排出口相通的中空的排出路。
5.如权利要求3所述的电子照相感光体的底涂层形成用涂布液的制 造方法,其中,所述湿式搅拌球磨机具有圆筒形的定子、设置在定子一 端的浆料供给口、设置在定子另一端的浆料排出口、用于将填充在定子 内的介质和从供给口供给的浆料搅拌混合的转子、以及连接在排出口的 分离器,所述分离器通过离心力的作用分离介质和浆料并将浆料从排出 口排出,在所述湿式搅拌球磨机中,所述分离器具有相对向的两片盘、 叶片和固定部件,所述两片盘在相对向的内侧面具有叶片的嵌合槽,所 述叶片嵌合于嵌合槽并处于两片盘之间,所述固定部件从两侧夹持其间 存在有叶片的盘。
6.一种电子照相感光体,其具有涂布涂布液而形成的底涂层,所述 涂布液为权利要求1所述的涂布液。
7.一种电子照相感光体,其具有涂布涂布液而形成的底涂层,所述 涂布液是采用权利要求2~权利要求5任意一项所述的制造方法制造得到 的底涂层形成用涂布液。
8.一种成像装置,其具有电子照相感光体、使该电子照相感光体带 电的充电单元、对带电的所述电子照相感光体进行像曝光以形成静电潜 像的像曝光单元、用调色剂将该静电潜像显影的显影单元和将调色剂转 印到被转印体的转印单元,该成像装置的特征在于,所述电子照相感光 体为权利要求6或权利要求7所述的电子照相感光体。
9.如权利要求8所述的成像装置,其中,所述充电单元与所述电子 照相感光体接触配置。
10.如权利要求8或9所述的成像装置,其中,用于所述像曝光单 元的曝光用光的波长为350nm~600nm。
11.一种电子照相盒,其至少具有电子照相感光体、使该电子照相 感光体带电的充电单元和用调色剂将形成在所述电子照相感光体的静电 潜像显影的显影单元,该电子照相盒的特征在于,所述电子照相感光体 为权利要求6或权利要求7所述的电子照相感光体。
12.如权利要求11所述的电子照相盒,其中,所述充电单元与所述 电子照相感光体接触配置。
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