[实用新型]微光学器件高速并行直写制作系统

权利要求书

1.一种微光学器件高速并行直写制作系统，其特征在于它包括按下列顺序在光轴线上依次排列的由光源发出的光垂直照射的电寻址空间光调制器、傅里叶变换透镜、空间滤波器、物镜和二维精密位移平台，还包括机内设有图形生成软件的计算机，空间滤波器置于傅里叶变换透镜的后焦面上，空间光调制器通过导线与计算机的显示视频扩展输出口连接。

2.根据权利要求1所述的微光学器件高速并行直写制作系统，其特征在于所述电寻址空间光调制器为透射型电寻址空间光调制器，在光轴线上于透射型电寻址空间光调制器前设有依次排列的光源和扩束准直器。

3.根据权利要求1所述的微光学器件高速并行直写制作系统，其特征在于所述电寻址空间光调制器为反射型电寻址空间光调制器，所述光轴线分为第一光轴线和第二光轴线，反射型电寻址空间光调制器、傅里叶变换透镜、空间滤波器、物镜和二维精密位移平台按以上顺序在第一光轴线上依次排列，在反射型电寻址空间光调制器和傅里叶变换透镜之间设有分束器，在第二光轴线上设有依次排列的光源和扩束准直器，第一光轴线和第二光轴线在分束器处垂直相交，分束器的法线与两光轴线的夹角均为45°。

4.根据权利要求1或2或3所述的微光学器件高速并行直写制作系统，其特征在于所述二维精密位移平台与所述计算机相连，或与另一台计算机相连。

5.根据权利要求1或2或3所述的微光学器件高速并行直写制作系统，其特征在于所述光源是紫外光源或是He-Cd激光器。