[发明专利]机械密封件及其制造方法无效
| 申请号： | 200710199768.6 | 申请日： | 2007-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101424342A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | K·阿南德;M·萨尔希;B·W·布里森;F·加斯皮普尔;P·马修;D·M·格雷;D·斯里尼瓦桑 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | F16J15/16 | 分类号： | F16J15/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;廖凌玲 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 机械 密封件 及其 制造 方法 | ||
1.一种机械密封件，包括：
一对相对的密封面(10)，其中，该对密封面(10)中的至少一个密封面包括布置在基底(12)上的一多层涂层(14)，其中，该多层涂层(14)包括：
相异层的周期性重复；或
一种组合物的多个层，其中，该组合物中没有任何两个相邻层包括相同比例的组合物组分；或
这两者。
2.如权利要求1所述的机械密封件，其中，这些相异层形成一种异质结构。
3.如上述权利要求中任一项所述的机械密封件，其中，该多层涂层(14)进一步包括粘合层(16)、低摩擦层(28)或润滑剂层(30)或其组合。
4.如上述权利要求中任一项所述的机械密封件，其中，包括有布置到基底(12)上的该多层涂层(14)的该对密封面(10)中的该至少一个密封面在该非接触式机械密封件的工作期间旋转。
5.如上述权利要求中任一项所述的机械密封件，其中，包括有布置到基底(12)上的该多层涂层(14)的该对密封面(10)中的该至少一个密封面包括螺旋形凹槽(32)。
6.如上述权利要求中任一项所述的机械密封件，其中，该机械密封件是非接触式机械密封件。
7.一种方法，包括：
将一多层涂层(14)布置到基底(12)上以形成机械密封件的一对相对密封面(10)中的至少一个密封面。
8.如权利要求7所述的方法，其中，该多层涂层(14)包括：
相异层的周期性重复；或
一种组合物的多个层，其中，该组合物中没有任何两个相邻层包括相同比例的组合物组分；或
这两者。
9.如权利要求8所述的方法，其中，该多层涂层(14)的任何一层均采用物理气相沉积进行布置。
10.如权利要求7所述的方法，还包括在将该多层涂层(14)布置到基底(12)上之前将粘合层(16)化学气相沉积到基底(12)上。
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