[发明专利]光近场产生装置、光近场产生方法及信息记录和再现装置有效
| 申请号: | 200710185775.0 | 申请日: | 2007-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN101261837A | 公开(公告)日: | 2008-09-10 |
| 发明(设计)人: | 本乡一泰;渡边哲 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/00 | 分类号: | G11B5/00;G11B5/012;G11B5/74 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 马高平 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 近场 产生 装置 方法 信息 记录 再现 | ||
1.一种光近场产生装置,包括:
光源;
光透射衬底;以及
被光源发射的光照射以产生光近场的导电散射体,其中,
所述导电散射体形成在光透射衬底的具有不同高度的平面上,包括形成于与被施加光近场的物体最接近的表面上的第一区域和形成于相比第一区域远离所述物体的表面上的第二区域,并且从所述散射体的第一区域朝向所述物体产生光近场。
2.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,
所述散射体从所述第一区域产生光近场,所述第一区域的至少一部分形成为大致平行于物体表面的平坦表面。
3.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,所述散射体具有如下关系:
h1≤h2,
h1为第一区域的厚度,h2为第二区域中距离第一区域最远的部分的厚度。
4.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,
所述散射体形成在所述衬底的三个或更多个具有不同高度的平面上。
5.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,
所述散射体形成在设置于所述衬底的一个或多个平面以及一个或多个倾斜于上述平面的平面上。
6.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,
从垂直于所述物体的表面的方向观察,所述散射体的第一区域的形状由多边形、圆形或者椭圆的至少一部分或者由它们的组合形成。
7.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,进一步包括:
在所述衬底上的位于所述散射体的第一区域的附近的一单独的导电散射体,
散射体之间的间隔等于或者小于所述光源所发射的光的波长。
8.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,
所述散射体埋入所述衬底中。
9.根据权利要求8所述的光近场产生装置,其中,
所述散射体的第一区域的至少一部分形成为与所述物体的表面平行的表面,并且该平行表面和所述衬底的表面相互大致齐平。
10.根据权利要求1所述的光近场产生装置,其中,进一步包括:
光屏蔽薄膜,形成在所述散射体周围。
11.一种用光照射导电散射体以产生光近场的光近场产生方法,包括如下步骤:
形成所述散射体,该散射体具有沉积在以不同高度设置于光透射衬底的平面上的形状;
使形成于衬底最高表面的区域布置成以等于或者小于光近场到达长度的距离接近物体的表面;
施加所述光近场给所述物体的表面。
12.一种信息记录和再现装置,包括:
光源;
光透射衬底;
面对信息记录介质的散射体;以及
光学系统,具有将光源发射的光导入散射体的功能,
其中由所述散射体产生的光近场被施加给信息记录介质的预定位置以记录信息到信息记录介质,并且
所述散射体形成在光透射衬底的具有不同高度的平面上,包括形成于与被施加光近场的信息记录介质最接近的表面上的第一区域和形成于相比第一区域远离信息记录介质的表面上的第二区域,并且从散射体的第一区域朝向信息记录介质的预定位置产生光近场。
13.根据权利要求12所述的信息记录和再现装置,其中,进一步包括:
在衬底表面至少一部分上围绕散射体形成的一导体,
电流施加到所述导体,该导体作为在第一区域附近产生磁场的磁场产生部分。
14.根据权利要求12所述的信息记录和再现装置,其中,
所述散射体从所述第一区域产生光近场,所述第一区域的至少一部分形成为大致平行于信息记录介质表面的平坦表面。
15.根据权利要求12所述的信息记录和再现装置,其中,所述散射体具有如下关系:
h1≤h2,
h1为第一区域的厚度,h2为第二区域中距离第一区域最远的部分的厚度。
16.根据权利要求12所述的信息记录和再现装置,其中,
所述散射体形成在所述衬底的三个或更多个具有不同高度的平面上。
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