[发明专利]研磨液组合物

说明书

本申请是2003年7月31日提交的申请号为03152471.0的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及有特定粘度的研磨液组合物、端面下垂(倒楞；倒棱；塌边；roll off)降低剂及使用它的研磨液组合物。进一步地，涉及使用该研磨液组合物的基板的制造方法和降低基板的端面下垂的方法。

背景技术

硬盘提高了对推进高容量化的技术的希望。作为推进高容量化的有力的手段之一，减小在研磨工序中发生的端面下垂(被研磨基板的端面倒角)、能记录到更外周部是所希望的。为了制造这种降低端面下垂的基板，研讨了使研磨垫坚硬、使研磨载荷小的机械研磨条件。可是，这样的机械研磨条件虽然有效果，但还不能说是充分的。另外，采用在研磨工序中使用的研磨液组合物，从降低端面下垂的观点研讨了以具有羟基的有机酸为代表的特定的有机酸的使用(特开2002-12857号公报)、铝盐的溶胶化生成物的使用(特开2002-20732号公报)、聚烷撑氧化合物的使用(特开2002-167575号公报)等，但现状是不能断言能充分降低端面下垂。

发明内容

本发明的要旨涉及如下内容：

(1)一种研磨液组合物，含有研磨材、水、和有机酸或其盐，其在剪切速度1500s^-1时的在25℃的特定粘度(specified viscosity)为1.0-2.0mPa·s；

(2)一种端面下垂降低剂，由具有用下式表示的粘度降低量为0.01mPa·s以上的粘度降低作用的布朗斯台德酸或其盐构成，

粘度降低量＝基准研磨液组合物的粘度-含有端面下垂降低剂的研磨液组合物的粘度

其中，基准研磨液组合物由研磨材(用α型的刚玉晶体(co-randomcrystal)构成的Al₂O₃纯度为98.0重量％以上的高纯度氧化铝)20重量份、柠檬酸1重量份及水79重量份构成，含有端面下垂降低剂的研磨液组合物由研磨材(用α型的刚玉晶体构成的Al₂O₃纯度为98.0重量％以上的高纯度氧化铝)20重量份、柠檬酸1重量份、水78.9重量份及端面下垂降低剂0.1重量份构成，粘度是指在剪切速度1500s^-1、25℃下的粘度；

(3)一种研磨液组合物，含有前述(2)记载的端面下垂降低剂、研磨材及水；

(4)一种具有使用前述(1)或(3)记载的研磨液组合物来研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法；以及

(5)一种通过使用前述(1)或(3)记载的研磨液组合物研磨而降低被研磨基板的端面下垂的方法。

附图说明

图1是表示测定曲线和端面下垂的关系的图。

具体实施方式

本发明涉及提供能够充分地得到研磨速度、且能降低在研磨中产生的基板的端面下垂的端面下垂降低剂、含有该端面下垂降低剂的研磨液组合物、使用该研磨液组合物的基板的制造方法、使用前述研磨液组合物的降低端面下垂的方法。

1.方案a的研磨液组合物

本发明的研磨液组合物(以下也叫方案a的研磨液组合物)含有研磨材、水、和有机酸或其盐，其在剪切速度1500s^-1时的在25℃的特定粘度为1.0-2.0mPa·s，通过使用该研磨液组合物，能够在维持研磨速度的同时有意地降低基板的端面下垂，体现能够生产能记录到外周部的基板这一显著的效果。详细的情况不清楚，但可认为，通过降低方案a的研磨液组合物在高剪切时的粘度，研磨液组合物向研磨液的研磨垫-被研磨物间的供给性和研磨屑的排除性提高。由于这种情况，被研磨物的内侧的研磨量增大，内侧和外侧(端面部)的研磨速度差相对地变小，结果可推定为端面下垂降低。

所谓本发明中的特定粘度，是指在剪切速度1500s^-1时的在25℃下的研磨液组合物的粘度，具体讲，指在后述的条件下使用RheometricScientific F.E.LTD.公司制的ARES-100FRT-BATH-STD(商品名)测定的值。

本发明的方案a的研磨液组合物，在剪切速度1500s^-1时于25℃的特定粘度为1.0-2.0mPa·s，但从使方案a的研磨液组合物向研磨垫-被研磨基板间的供给量和研磨屑的去除性提高、得到足够的端面下垂降低作用的观点和维持研磨速度的观点考虑，优选为1.3-2.0mPa·s，特别优选为1.5-1.9mPa·s。