[发明专利]用微波等离子体在热塑性容器中沉积内部屏蔽涂料的装置有效
| 申请号: | 200710163701.7 | 申请日: | 2007-10-11 |
| 公开(公告)号: | CN101161859A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
| 发明(设计)人: | 伊维斯·厄本·杜克拉斯;达米恩·西瑞特 | 申请(专利权)人: | 西得乐公司 |
| 主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/44;C23C16/24;C23C16/26;C23C16/30 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
| 地址: | 法国奥*** | 国省代码: | 法国;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 微波 等离子体 塑性 容器 沉积 内部 屏蔽 涂料 装置 | ||
1.用于利用微波等离子体在由热塑性塑料制成的容器(5)的内壁上沉积屏蔽涂料的装置,该装置包括多个容器处理站(1),每个容器处理站(1)包括处理罩(2)和形成盖(3)并包括真空泵室的上塞,在所述真空泵室中,用于密封连接到容器(5)的连接器(4)包括与容器(5)的颈(7)共轴的大体管状形状的套筒(6),每个盖(3)还支撑与所述套筒(6)共轴的并适用于在处理期间将反应流体注入容器(5)中的注射器(8),其特征在于,形成站组的多个相邻站的选自套筒(6)和注射器(8)中的构件被固定到以桥的形式跨越所述站(1)的盖(3)延伸的单个支撑板(15,20)上,由此所述板(15,20)和由所述板支撑的所述站组的站(1)的构件(6,8)构成整体组件(16,21),该整体组件(16,21)能够作为一体被操纵,以将所述构件(6,8)安装到各自的板(3)上或者从那里移去它们。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述构件为套筒(6),并且所述站组的相邻站(1)的套筒(6)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3)延伸的单个套筒支撑板(15)上。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述构件为注射器(8),并且所述站组的相邻站(1)的注射器(8)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3)延伸的注射器支撑板(20)上。
4.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,
所述构件为注射器(8),并且所述站组的相邻站(1)的注射器(8)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3)延伸的单个注射器支撑板(20)上;
所述站组的相邻站(1)的套筒(6)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3)延伸的单个套筒支撑板(15)上;
所述站组的相邻站(1)的注射器(8)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3)延伸的单个注射器支撑板(20)上;以及
所述注射器支撑板(20)位于套筒支撑板(15)的顶部上。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,每个板(15,20)在其中心部分包括适用于操纵整体组件(16,21)的夹持器(17,22)。
6.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,每个板(15,20)在其中心部分包括适用于操纵整体组件(16,21)的夹持器(17,22);在它们各自的中心部分,套筒支撑板(15)和注射器支撑板(20)在相对的横向方向上相互偏移;各自的夹持器(17,22)并排设置;并且,用于夹持位于下方的套筒支撑板(15)的夹持器(17)使得包括两个板,即套筒支撑板(15)和注射器支撑板(20)的组件能够被作为一体来处理。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,每个整体组件(16,21)被设计为用于与相关联的盖(3)自动建立流体的和/或电的连接(26)。
8.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,每个板(15,20)设置有至少一个导向指状部(18,23),所述至少一个导向指状部(18,23)与由所述板支撑的构件(6,8)的轴线平行并且被容纳在所述板下方的元件中。
9.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,每个板(15,20)设置有至少一个导向指状部(18,23),所述至少一个导向指状部(18,23)与由所述板支撑的构件(6,8)的轴线平行并且被容纳在所述板下方的元件中;并且,位于下方的套筒支撑板(15)设置有至少一个贯通座(25),该至少贯通座(25)适于使位于上方的注射器支撑板(20)的至少一个导向指状部(23)穿过它。
10.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述处理站被分布在包括多个相邻站(1)的组中,并且每个板(15,20)支撑属于站组的各个相邻站(1)的多个构件(6,8)。
11.根据权利要求10所述的装置,其特征在于,其包括偶数个站(1),每个站组包括两个相邻的站(1),并且每个板(15,20)支撑属于站组的两个各自的相邻站(1)的多个构件(6,8)。
12.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,站组的两个相邻站的罩(2)被集中且并置。
13.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,对于每个站(1),形成盖(3)的上塞为固定的,并被固定到各自的罩(2)上;并且罩(2)的底部(10)能够轴向移动,以使得颈向上放置的容器(5)能够经由罩底部插入和取出。
14.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,其为旋转传送带型,并且包括支撑分布在其周边上的所述多个站(1)的旋转框架。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





