[发明专利]氮化物半导体激光器件无效
| 申请号: | 200710153168.6 | 申请日: | 2005-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN101132113A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
| 发明(设计)人: | 津田有三;花冈大介;石田真也 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | H01S5/022 | 分类号: | H01S5/022;H01S5/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 葛青 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氮化物 半导体激光器 | ||
1.一种氮化物半导体激光器件(10),包括:
氮化物半导体激光元件(11),其具有谐振腔端面且能够发光;以及
管座(14),其具有所述氮化物半导体激光元件(11),其中
所述氮化物半导体激光元件(11)密封在罩(15)之内,该罩连接到所述管座(14),且
所述罩(15)中的气氛具有最高-30℃的露点和小于100ppm的氧浓度。
2.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中所述气氛具有最高为1.3kPa的压强。
3.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中所述气氛包括氦气。
4.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中所述气氛包括氮气。
5.根据权利要求3所述的氮化物半导体激光器件,其中所述气氛具有高于100kPa的压强。
6.根据权利要求4所述的氮化物半导体激光器件,其中所述气氛具有高于100kPa的压强。
7.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中
所述罩(15)具有窗口(16),且所述窗口(16)具有至少0.5mm、最多1.0mm的厚度。
8.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中利用插置在所述罩(15)和所述管座(14)之间的金属将它们连接起来。
9.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中在所述罩(15)之内提供一具有所述氮化物半导体激光元件(11)的散热器(12)。
10.根据权利要求1所述的氮化物半导体激光器件,其中
在所述罩(15)之内提供光探测元件(13),用于探测来自所述氮化物半导体激光元件(11)的激光束。
11.一种用于组装如权利要求1所述的氮化物半导体激光器件(10)的组装设备,其包括:
组装机构,能够组装被送入所述组装设备中的所述氮化物半导体激光器件(10)而不将所述组装设备的内部开放给外界空气;
真空机构,用于在所述组装设备之中产生真空;
气体供给机构,用于以预定的气氛气体替代所述组装设备的内部;
清除机构,用于将所述组装设备内部的所述气氛气体排放到外部;以及
测量机构,用于检测所述组装设备内部的氧浓度和露点。
12.根据权利要求11所述的组装设备,其中
所述组装设备内部的压强、气氛气体类型、氧浓度和露点分别和所述氮化物半导体激光器件(10)的气氛的压强、气体类型、氧浓度和露点相同。
13.根据权利要求11所述的组装设备,其中
所述组装设备内部的压强相对于所述氮化物半导体激光器件(10)的气氛压强的指定值为负压强或正压强。
14.根据权利要求11所述的组装设备,其中
所述组装设备内部的氧浓度低于所述氮化物半导体激光器件(10)的气氛的氧浓度。
15.根据权利要求11所述的组装设备,其中
所述组装设备内部的露点低于所述氮化物半导体激光器件(10)的气氛的露点。
16.一种制造如权利要求1所述的氮化物半导体激光器件(10)的方法,包括如下步骤:使用所述氮化物半导体激光器件(10)的组装设备,将所述氮化物半导体激光器件(10)装入所述组装设备并无需将所述组装设备内部开放给外界空气,组装所述氮化物半导体激光器件(10)。
17.根据权利要求16所述的制造氮化物半导体激光器件的方法,进一步包括如下步骤:
在所述组装设备中产生真空;
设定所述组装设备内部的压强、气氛气体类型、氧浓度和露点,使其分别和所述氮化物半导体激光器件(10)的气氛的压强、气体类型、氧浓度和露点相同。
18.根据权利要求16所述的制造氮化物半导体激光器件的方法,进一步包括如下步骤:
在所述组装设备中产生真空;以及
设定所述组装设备内部的压强,使其相对于所述氮化物半导体激光器件(10)的气氛压强的指定值为负压强或正压强。
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