[发明专利]光学膜、光学膜的制造方法及光学膜模具装置

权利要求书

1.一种光学膜，包含：一个包括一个第一面与一个第二面的基材，且该第一面与该第二面反向、一个位于该第一面上的扩散层，以及一个位于该第二面上并包括至少一个集光结构的集光层，其特征在于，

该扩散层包括至少一个扩散结构，所述扩散结构具有一个主体，以及一个位于该主体表面的非平整部，所述扩散结构的表面粗糙度为R1，所述R1是指截取所述扩散结构表面上的单位长度内最高点与最低点的高度差，且0.5μm≤R1≤10μm。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，该集光结构具有一个主体，以及一个位于主体表面的非平整部，所述非平整部的厚度为d 1，且0.2μm≤d1≤10μm。

3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，该扩散结构的主体的宽度为W，高度为H，且H/W≥0.4。

4.一种光学膜的制造方法，配合一个光学膜模具装置来制造光学膜，该光学膜模具装置包含一个第一模，且该第一模具有一个第一成型面，所述光学膜的制造方法包含：

步骤A：准备一个基材，所述基材具有间隔的一个第一面与一个第二面；

步骤B：于该基材的第一面上形成一层扩散层；

步骤C：于该基材的第二面上形成一层集光层；

其特征在于，该光学膜的制造方法还包含一个步骤D，步骤D是于该第一模的第一成型面作表面改质处理，使该第一成型面形成一个非平整结构，而步骤B是将扩散层成型材料披覆于该基材的第一面上，利用该第一模于该基材的第一面上成型出该扩散层，使该扩散层的表面形成与该第一成型面对应的结构，其中所述对应的结构的表面粗糙度为R1，所述R1是指截取所述对应的结构表面上的单位长度内最高点与最低点的高度差，且0.5μm≤R1≤10μm。

5.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其特征在于，该第一模的第一成型面是选用下列方法来作表面改质而形成非平整结构：喷砂、电解电镀、激光加工。

6.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其特征在于，前述光学膜模具装置还包含一个第二模，该第二模具有一个第二成型面，在形成该集光层时，是于该第二成型面作表面改质处理，使该第二成型面具有一个非平整结构，再将集光层成型材料披覆于该基材的第二面上，利用该第二模在基材的第二面上成型出该集光层，使该集光层的表面形成与该第二成型面对应的结构。

7.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其特征在于，该集光层包括至少一个集光结构，该集光结构具有一个主体，以及一个位于主体表面的非平整部，所述非平整部的厚度为d1，且0.2μm≤d1≤10μm。

8.一种光学膜模具装置，用于成型一个光学膜，所述光学膜包含一层扩散层，该光学膜模具装置包含：一个用于成型该扩散层的第一模，该第一模具有一个第一成型面，其特征在于，

该第一模还具有一个位于该第一成型面上的非平整结构，其中，该非平整结构用以形成权利要求1中所述的非平整部。

9.根据权利要求8所述的光学膜模具装置，其特征在于，该第一模包括一个滚动部，以及一个自该滚动部的表面突出的成型部，该成型部具有前述第一成型面与非平整结构。