[发明专利]光学记录方法,光学记录装置,光学记录介质,光学复制方法和光学复制装置无效

专利信息
申请号: 200710137062.7 申请日: 2007-07-19
公开(公告)号: CN101110228A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 宇佐美由久;益金和行 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G11B7/0065 分类号: G11B7/0065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 柳春琦
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 记录 方法 装置 介质 复制
【权利要求书】:

1.一种光学记录方法,该方法包括:

使用信息光束和参考光束辐照光学记录介质,

将所述信息光束和所述参考光束中的至少一束在所述信息光束和参考光束的光源与所述光学记录介质之间分开成两束或更多束,和

调节分开的信息光束和参考光束的光程长度,使得它们聚焦在记录层的整个厚度上彼此不同的点上,

其中所述光学记录介质包含记录层,在所述记录层中信息被全息记录。

2.根据权利要求1所述的光学记录方法,其中通过安置在所述信息光束和参考光束的光源和所述光学记录介质之间的至少一个光程长度调节单元调节光程长度。

3.根据权利要求2所述的光学记录方法,其中所述光程长度调节单元在其光发射表面上具有离所述光学记录介质不同距离的点。

4.根据权利要求2所述的光学记录方法,其中将至少两个所述光程长度调节单元安置在光发射方向上的不同位置。

5.根据权利要求2所述的光学记录方法,其中所述光程长度调节单元包含焦点调节构件。

6.根据权利要求2所述的光学记录方法,其中所述光程长度调节单元包含空间光调制器。

7.根据权利要求1所述的光学记录方法,其中以1μm至1,000μm调节光程长度。

8.根据权利要求4所述的光学记录方法,其中在安置于不同位置的两个或更多个所述光程长度调节单元之间的、与所述光发射方向相交的方向上的距离“d”和跨过所有光程长度调节单元的总宽度D满足等式:

d/D=1/1,000至1/2。

9.根据权利要求1所述的光学记录方法,其中将所述信息光束和所述参考光束以它们的光轴同轴排列的方式发射。

10.一种光学记录装置,其包含:

光源;

光学记录单元,所述光学记录单元被配置成下列形式:在具有记录层的光学记录介质上记录信息,在所述记录层中通过使用信息光束和参考光束辐照所述光学记录介质全息记录信息;和

被配置成下列形式的单元:将所述信息光束和参考光束中的至少一束在所述信息光束和参考光束的光源和所述光学记录介质之间分开成两束或更多束,并且调节分开的信息光束和参考光束的光程长度,使得它们聚焦在所述记录层的整个厚度上彼此不同的点上。

11.根据权利要求10所述的光学记录装置,其中将至少一个光程长度调节单元安置在所述信息光束和参考光束的光源和所述光学记录介质之间,并且将所述光程长度调节单元配置成调节光程长度的形式。

12.根据权利要求10所述的光学记录装置,其中以1μm至1,000μm调节光程长度。

13.一种光学记录介质,其包含:

记录层,

其中通过光学记录方法在记录层中全息记录信息,并且

其中所述光学记录方法包括使用信息光束和参考光束辐照所述光学记录介质,将所述信息光束和所述参考光束中的至少一个在所述信息光束和参考光束的光源和所述光学记录介质之间分开成两束或更多束,并且调节分开的信息光束和参考光束的光程长度,使得它们聚焦在所述记录层的整个厚度上彼此不同的点上。

14.根据权利要求13所述的光学记录介质,其中以反射型全息图和透射型全息图中的任何一种的形式记录信息。

15.一种光学复制方法,该方法包括:

使用与记录过程中所用的参考光束相同的复制光束辐照干涉图像,所述干涉图像是采用光学记录方法在光学记录介质中的记录层上形成的;

由光接受单元接受通过所述辐照产生的衍射光;和

基于所述干涉图像复制记录的信息,

其中所述光学记录方法包括使用信息光束和参考光束辐照所述光学记录介质,将所述信息光束和所述参考光束中的至少一束在所述信息光束和参考光束的光源与所述光学记录介质之间分开成两束或更多束;和调节分开的信息光束和参考光束的光程长度,使得它们聚焦在所述记录层的整个厚度上彼此不同的点上,

其中所述光学记录介质包含所述记录层,并且通过所述光学记录方法在所述记录层中全息记录记录的信息。

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