[发明专利]去除边缘光刻胶装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示面板生产中使用的去除光刻胶装置，尤其是一种去除边缘光刻胶装置。 

背景技术

液晶显示器(LCD)中主要的显示功能器件为液晶面板，液晶面板结构一般由上下两层基板对盒而成，中间为液晶层，其显示原理是利用液晶分子具有的介电各向异性及导电各向异性，在上下两层基板上分别形成有对应电极，从而在两基板间产生电场，外加电场时使中间液晶分子的排列状态转换，产生各种光电效应。一基板上具有矩阵阵列的多个像素电极、另一基板具有公共电极的LCD在市场中占有主导地位，它通过薄膜晶体管(TFT)作为控制开关，控制施加到像素电极上电压的不同而产生不同的图像。 

图2为薄膜晶体管的结构示意图。如图2所示，薄膜晶体管的制造工艺首先是在玻璃基板1上形成金属栅极薄膜，栅极薄膜由铝或铝合金通过溅射沉积形成，经过光刻工序(涂胶、曝光、显影和刻蚀)将栅极薄膜形成栅电极2和栅极线(未标出来)；其次利用化学气相沉积先后在栅电极2上面依次沉积绝缘层、半导体层和掺杂半导体层，对半导体层和掺杂半导体层进行第二次光刻工序形成绝缘层3、半导体层4和掺杂半导体层5；然后在上述结构上利用溅射工艺形成金属源/漏薄膜(Mo-Al-Mo三层金属组成)，再通过第三次光刻工序形成金属源/漏结构6，从而形成具有三个端子的薄膜晶体管(TFT)。 

在上述制造工艺的光刻工序中，光刻胶被均匀地涂敷在整个基板表面，在进入下一工序前，基板边缘的光刻胶要去除掉，否则边缘的光刻胶滴落到后续单元设备中会形成不良并且影响设备的正常运行，降低稼动率。因此在TFT的制造工艺中，去除边缘光刻胶装置是影响良品率的一个重要设备。

在传统的去除边缘光刻胶工艺中，基板进入去除边缘光刻胶装置后，由四个移动喷嘴分四个行程(折返两次)对其边缘处喷化学药液，溶解后通过排管排出，达到去除光刻胶的效果。传统去除边缘光刻胶装置中，药液从竖直喷针中喷到基板边缘上，溶解掉光刻胶。同时为防止溶解后的光刻胶滴落到设备中，在外侧呈45°分布有氮气喷针，最后一个行程启用，把溶解后的光刻胶吹到排管中排走。实际生产表明，该结构会使45°喷射的氮气和垂直喷射的药液在最后一个行程同时喷射，当某个或部分喷针出现变形时，气液形成角度差，容易使化学药液溅射到基板上，产生不良。 

发明内容

本发明的目的是提供一种去除边缘光刻胶装置，有效解决现有装置使用中药液容易溅射到基板上形成不良等技术缺陷。 

为了实现上述目的，本发明提供了一种去除边缘光刻胶装置，包括装置主体，所述装置主体内设置有通过负压抽吸玻璃基板边缘残液的排管，所述装置主体上连接有从玻璃基板上方和下方以倾斜方向向玻璃基板端部喷射化学药液的上喷针和下喷针。 

所述上喷针通过上连接件与所述装置主体连接，所述上连接件上设置有导入化学药液的上药液进口。 

所述下喷针通过下连接件与所述装置主体连接，所述下连接件上还设置有导入化学药液的下药液进口。 

在上述技术方案基础上，所述上喷针与玻璃基板的夹角为30°～60°，所述下喷针与玻璃基板的夹角为30°～60°。优选地，所述上喷针与玻璃基板的夹角为45°，所述下喷针与玻璃基板的夹角为45°。 

在上述技术方案基础上，所述上喷针的端部与玻璃基板的垂直距离为 1mm～1.5mm，所述下喷针的端部与玻璃基板的垂直距离为1mm～1.5mm。优选地，所述上喷针的端部与玻璃基板的垂直距离为1.25mm，所述下喷针的端部与玻璃基板的垂直距离为1.25mm。 

在上述技术方案基础上，所述排管内的负压为300pa～800pa。 

本发明针对现有装置使用中化学药液容易溅射到基板上形成不良等技术缺陷，通过改变化学药液的进入管道、喷射方向和设置具有负压力的排管，提出了一种新型结构的去除边缘光刻胶装置。与现有技术吹氮气的技术方案相比，本发明技术方案取消现有技术的竖直喷针，不再吹氮气，因此避免了现有装置使用中出现的气液干涉，减少了化学药液溅射到玻璃基板上形成不良的几率。本发明将化学药液经倾斜设置的上喷针和下喷针喷出，同时在排管内设置负压，及时吸走溶解的光刻胶，一方面可以快速去除光刻胶，另一方面减少了化学药液的溅射几率，同时节约氮气，降低了生产成本。 

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。 

附图说明

图1为本发明去除边缘光刻胶装置结构示意图；