[发明专利]就产生颗粒的杂质对反应性气体例如硅烷进行分析

权利要求书

1.一种制备方法，包括向处理装置提供含有至少一种杂质的气体，所述杂质起反应和/或形核以形成悬浮在所述气体中的污染性颗粒，改进之处在于，其中颗粒计数器和/或颗粒俘获过滤器对位于所述处理装置上游的气流进行采样，以检测在所述气流中悬浮的所述污染性颗粒的量，并且当所述污染性颗粒的量超过预定量时产生信号。

2.权利要求1的方法，其中所述处理装置为化学气相沉积外延沉积工具。

3.权利要求1的方法，其中气体为硅烷。

4权利要求1的方法，其中所述污染性颗粒为与水和氧气中至少一种反应的产物。

5.权利要求1的方法，其中所述污染性颗粒为通过减压形成的成核型分子杂质。

6.权利要求1的方法，其中所述气体为硅烷，所述污染性颗粒包含选自硅氧烷颗粒和二氧化硅颗粒的至少一种。

7.权利要求6的方法，其中二氧化硅的最大容许浓度是使用校正曲线从预定量确定的。

8.权利要求7的方法，其中颗粒的所述预定量与气流中2.75×10^-16摩尔二氧化硅/摩尔硅烷相关。

9.权利要求7的方法，其中颗粒的所述预定量与万亿分之10份的二氧化硅浓度相关。

10.权利要求1的方法，其中所述颗粒计数器为光学颗粒计数器。

11.权利要求1的方法，其中当产生信号时，中断气体流入所述处理装置。

12.权利要求1的方法，其中信号包含可听见的警报。

13.权利要求1的方法，包含测定至少一种选自下述的成员：(a)颗粒的数量；(b)颗粒的浓度密度；(c)颗粒尺寸分布；(d)颗粒形态学；和(e)颗粒组成。

14.权利要求1的方法，其中颗粒计数器和颗粒俘获过滤器采样位于所述处理装置上游的气流，以测定污染性颗粒的量。

15.权利要求1的方法，其中污染性颗粒的平均尺寸为0.003μm至10μm。

16.权利要求1的方法，其中测得的污染性颗粒的平均量为1/标准立方英尺(cu.ft.)至10000000/cu.ft.。

17.一种集成电路制备方法，包含给处理装置提供气态硅烷，改进之处在于，其中颗粒计数器和颗粒俘获过滤器的至少之一对位于处理装置上游的硅烷流进行采样，以检测悬浮于所述硅烷流中的污染性颗粒的量，并且当污染性颗粒的量超过预定量时产生信号。

18.用于保持处理装置气体进料流的纯度水平在或高于最低可接受纯度水平的装置，所述装置包含：

提供气体的供应源：

至少一种与所述供应源流体连通的处理工具，其用于使用所述气体执行处理功能；

放置在所述处理工具上游和所述供应源下游的颗粒计数器；

与至少所述颗粒计数器电连接的微处理器；和任选地

与所述处理工具上游和所述供应源下游的所述颗粒计数器并联设置的颗粒俘获过滤器。

19.权利要求18的装置，其中所述至少一种处理工具为化学气相沉积设备，气体为硅烷。

20.权利要求18的装置，进一步包含至少一个通过微处理器控制的阀，以使当微处理器确定气体进料流中污染性颗粒的量超过预定值时，可终止向所述至少一个处理工具供给气体进料流。

21.权利要求18的装置，其中所述颗粒计数器为光学颗粒计数器。

22.权利要求18的装置，包含颗粒计数器和颗粒俘获过滤器两者。