[发明专利]具有改进的光提取效率的发光器件及其制造方法有效
| 申请号: | 200710097140.5 | 申请日: | 2007-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN101064356A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
| 发明(设计)人: | G·卡纳里昂;D·W·莫斯利 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯公司 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沙永生 |
| 地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 改进 提取 效率 发光 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一种发光器件,该器件包括:
a)多层叠层,该叠层包括:
n-掺杂层;
光产生层;
p-掺杂层,
所述多层叠层具有发光叠层表面;
b)包封层,该包封层包括:
相邻的图案化的包封区域,该区域包括:
包括至少一个第一凹陷的第一凹陷组,所述第一凹陷中含有第一凹陷填料;
任选的,包含至少一个第二凹陷的第二凹陷组,所述第二凹陷中含有第二凹陷填料;
位于所述发光叠层表面上的相邻的图案化的包封表面;
所述第一凹陷组和第二凹陷组中的至少一种具有图案,其中:
所述图案是周期性图案,
所述图案在至少一个横向维度上具有至少为5纳米,且不大于5000微米的特征尺寸;
所述周期性图案在至少一个横向维度上具有至少10纳米,且不大于5000微米的周期;
所述第一凹陷的最大凹陷深度至少为25纳米,且不大于10000微米;
所述第二凹陷的最大凹陷深度至少为25纳米,且不大于10000微米;
所述第一凹陷和第二凹陷中的至少一种具有与所述相邻的图案化的包封表面相重合的凹陷开口;
任选的,包含包封材料的未图案化的包封区域;
所述第一凹陷填料的折射率与所述第二凹陷填料和所述包封材料中至少一种的折射率之差至少为0.001,且不大于3.0;
所述第一凹陷填料、第二凹陷填料和所述包封材料中至少一种的平均密度至少为0.03克/厘米3,且不大于0.60克/厘米3。
2.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第一凹陷填料和所述第二凹陷填料中的至少一种选自GaN、SiC、ZnS、TiO2、GaP和高折射率玻璃。
3.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第一凹陷填料和所述第二凹陷填料中至少一种的平均密度大于0.60克/厘米3,且不大于7.0克/厘米3。
4.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第一凹陷填料、所述第二凹陷填料和所述包封材料中的至少一种是固化的乙阶段光学材料。
5.如权利要求4所述的发光器件,其特征在于,所述固化的乙阶段光学材料还包含孔穴,以所述固化的乙阶段光学材料的体积为基准计,所述固化的乙阶段光学材料的孔隙率为至少0.1体积%至95体积%。
6.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述发光器件还包括反射层,该反射层能够反射所述光产生层产生的照射在所述反射层上的光中的至少50%,所述反射层位于所述多层叠层上与所述发光叠层表面相背的位置。
7.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述多层叠层还包括位于所述发光叠层表面和所述相邻的图案化的包封表面之间的插入的高折射率层,对于待提取的光波长,所述插入的高折射率层的折射率不会比发光叠层表面的折射率低0.5以上。
8.如权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述多层叠层还包括位于所述发光叠层表面和所述相邻的图案化的包封表面之间的粘合层,所述粘合层的厚度为1-50纳米。
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