[发明专利]用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法

权利要求书

1.一种用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：使用对准辐射源照射对准标记得到对准标记信号，使用透镜组聚焦所述对准标记信号，使用对准标记信号检测器收集被聚焦的所述对准标记信号，使用位移测量系统收集扫描过程中的位移信号，使用收集到的所述对准标记信号和所述位移信号确定所述对准标记的位置。

2.根据权利要求1所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)形成所述对准标记；

(2)使用所述对准辐射源照射所述对准标记，得到所述对准标记信号；

(3)使用所述透镜组聚焦所述对准标记信号；

(4)移动基底台及基底；

(5)使用所述对准标记信号检测器收集所述对准标记信号；

(6)使用所述位移测量系统收集所述位移信号；

(7)使用收集到的所述对准标记信号和所述位移信号确定所述对准标记的位置。

3.根据权利要求2所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述对准标记包含光栅，所述对准标记包含的所述光栅至少有三个不同的周期相位。

4.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述对准标记可以位于基底台上，也可以位于基底上。

5.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述对准标记信号为所述校准光束照射所述对准标记后发出的一级衍射信号。

6.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述透镜组可以是单独设计的采用双远心结构的4f透镜组，也可以是光刻机的投影物镜。

7.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述透镜组包括前组透镜和后组透镜，所述对准标记位于所述前组透镜的与所述透镜组不同侧的焦平面上。

8.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述用于投影扫描光刻机的对准方法使用统一的工作时序控制，同步采集所述对准标记信号和所述位移信号。

9.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述对准标记可以沿着待对准区域的分划边界间隙成等长线条排列。

10.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：可以分别收集所述不同周期相位的光栅产生的对准标记信号。

11.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述透镜组中可以加入空间滤波器。

12.根据权利要求11所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述空间滤波器仅允许三个周期相位的光栅的一级衍射信号通过。

13.根据权利要求12所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述空间滤波器可以是仅允许所述对准标记的光栅的一级衍射信号通过的孔径光阑。

14.根据权利要求3所述的用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：所述对准标记信号检测器可以包括：

对准辐射源光纤；

分光装置；

前组透镜；

空间滤波器；

后组透镜；

全反射器件；

光电信号传感器；和

与所述对准标记布局形式相应的参考光栅；

所述对准辐射源连接到所述对准辐射源光纤；所述对准辐射源光纤连接到所述分光装置的一个输入端；所述分光装置的一个输出端和另一个输入端同时指向所述对准标记；所述分光装置的另一个输出端指向所述前组透镜；所述空间滤波器位于所述前组透镜和所述后组透镜之间；所述全反射器件位于所述前组透镜和所述后组透镜的中心光路上；所述参考光栅分别位于所述对准标记的光栅通过透镜组成像位置；所述光电信号传感器分别位于所述参考光栅后。