[发明专利]用于自动设备驱动的制动装置和检测制动状态的方法无效

专利信息
申请号: 200680048021.4 申请日: 2006-12-05
公开(公告)号: CN101341009A 公开(公告)日: 2009-01-07
发明(设计)人: 英瓦尔·荣松 申请(专利权)人: ABB技术股份有限公司
主分类号: B25J19/00 分类号: B25J19/00;F16D65/14;F16D66/02
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 宋丹氢;张天舒
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 自动 设备 驱动 制动 装置 检测 状态 方法
【说明书】:

发明涉及一种用于识别自动设备驱动(robot drive)中制动装 置的制动状态的方法,以及,涉及一种用于自动设备驱动的制动装置, 自动设备驱动具有在其上布置制动元件的驱动轴,制动装置具有框架 装置,需要时通过框架装置可以将制动力施加至制动元件,框架装置 带有可以移动至第一位置和第二位置的第一框架件,上述位置之一与 “制动开启”操作状态对应,而另一位置则与“制动闭合”操作状态 对应。

制动装置(诸如用于自动设备驱动的制动装置)周知为例如盘 式制动装置的形式。使用这种制动装置,制动衬块会逐渐磨损,因而, 在制动装置使用一定时间之后,表现出减弱的制动性能,或者制动性 能完全失效。为了避免这一点,例如,在检查期间测量制动衬块的厚 度,或者,定期对其进行目测检查。

与这种现有技术背景不同,本发明的一个目的是提供一种方法, 用于识别自动设备驱动中制动装置的制动状态,通过本方法,可以特 别容易地检测制动状态。本发明的另一目的是提供一种相应的制动装 置,借助于本发明的装置可以特别地容易实现所提供的方法。

通过具有本申请权利要求1中所记载特征的用于识别制动状态 的方法、以及具有本申请权利要求15中所记载特征的用于自动设备 驱动的制动装置,达到了本发明的目的。

根据本发明,提供了一种用于识别自动设备驱动中制动装置的 制动状态的方法,制动装置具有框架装置,需要时,该框架装置通过 第一活动框架件向自动设备驱动的转动部件施加制动力。在这种情况 下,将制动装置移动至制动的至少两种操作状态,特别是开启状态或 者闭合状态,在制动装置从第一操作状态转变至第二操作状态期间, 记录测量信号。最终,通过比较测量信号与预定的基准值,确定制动 装置的制动状态。

这种方案的优点是:仅仅通过从一个操作状态改变到另一操作 状态的单一变化就可以检测制动装置的制动状态。

同样有利的是,选择制动装置的闭合状态作为第一位置,以及, 选择制动装置的开启状态作为第二位置。

根据本发明方法的一种有利改进方式为:通过至少一种电磁致 动保持装置,使第一框架件从第一位置移动到第二位置。

例如,这是一种致动电磁铁,当受到激励时,其固有地吸引框 架件。同样特别有利的是,在上述改进的情况下,通过电磁致动保持 装置的电流强度或电流强度曲线(profile)来确定电磁场强度。使用 此信号来确定第一框架件从第一位置到第二位置的距离。具体而言, 这利用了如下物理效应:为了使框架件从其第一位置移动到第二位 置,随着从第一框架件到电磁铁的距离增大,在电磁铁中需要的磁场 强度更大,并因此需要更高的电流强度。

本发明的目的同样由一种具有本申请权利要求15中所记载特征 的用于自动设备驱动的制动装置达到。

根据此权利要求,前面提及的这类制动装置的特征在于:通过 测量装置,记录关于第一框架件在其位置之间的距离的至少一种测量 信号,以及,通过比较该测量信号与基准值,利用评估装置确定制动 状态。

在根据本发明的制动装置的一个简单改进中,测量装置是例如 距离传感器,该距离传感器作为制动装置中的独立部件进行直接测 量,以测量第一框架件的第一位置与第二位置之间所要求的距离。具 体而言,此距离取决于制动装置的状态、尤其是制动衬块的层厚,该 制动衬块可以装配于制动装置的转动部件(例如制动盘),和/或装 配于第一框架件和/或装配于框架装置的一部分上。

如果利用电磁致动保持装置使第一框架件从其第一位置移动到 第二位置,这是特别有利的。

在这种情况下,也可以使用保持装置作为测量装置,具体而言, 将移动第一框架件所需的电流强度或电流强度曲线作为测量信号。这 使得可以实现所谓的距离间接测量。

按照这种方式,能以特别简单的方式技术上实现根据本发明的 优点。

在其他从属权利要求中,记载了根据本发明的制动装置和根据 本发明的方法的其他有利改进。

根据下文结合附图进行的详细描述,本发明的这些以及其它的 目的和优点将更为明了,其中:

图1示出制动装置的示意图;以及

图2示出测量值示例的曲线图。

图1以剖视图的形式示意性示出根据本发明的制动装置10,其 中省略了技术绘图的常用阴影。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ABB技术股份有限公司,未经ABB技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680048021.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top